半导体器件金铝键合的寿命研究
Study on the Lifetime of Gold-Aluminum Bonding in Semiconductor Devices作者机构：中国科学院微电子研究所北京100029
出 版 物：《微电子学》 (Microelectronics)
年 卷 期：2015年第45卷第6期
页 面：800-803页
学科分类：080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学]
摘 要：金铝键合失效是MOSFET器件常见的失效模式之一,主要是由于金属间化合物的生成,影响了金铝键合的接触电性能,从而导致键合强度下降,接触电阻升高。针对这种失效模式,进行了三种不同高温条件下的加速寿命试验,并对这三种试验的器件进行金铝键合现象观察,对目前工艺水平下的金铝键合寿命进行了评估。
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