电磁场增强多弧离子镀AlTiN涂层抗高温氧化研究

作     者：许建平 王佳杰 齐海群 王国星 尹志娟 巩春志 陈晶 XU Jianping;WANG Jiajie;QI Haiqun;WANG Guoxing;YIN Zhijuan;GONG Chunzhi;CHEN Jing

作者机构：黑龙江工程学院材料与化学工程学院黑龙江哈尔滨150050 哈尔滨工业大学先进焊接与连接国家重点实验室黑龙江哈尔滨150001 黑龙江省科学技术馆黑龙江哈尔滨150000 

出 版 物：《哈尔滨工程大学学报》 (Journal of Harbin Engineering University)

年 卷 期：2021年第42卷第5期

页      面：738-744页

核心收录：

学科分类：08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学] 

基　　金：国家自然科学基金项目(11675047,1187050765) 黑龙江省自然科学基金项目(E201458) 黑龙江工程学院基本科研业务费(创新团队类)项目(2020CX06) 黑龙江工程学院青年科学基金项目(2018QJ01,2012QJ15) 

主　　题：多弧离子镀 AlTiN 高温氧化 涂层 偏压 沉积速率 

摘      要：针对不同偏压下电磁场增强多弧离子镀技术制备AlTiN涂层组织结构及涂层抗高温氧化性能的复杂问题,本文利用电磁场增强多弧离子镀技术制备AlTiN涂层,采用SEM和XRD等分析测试方法研究脉冲负偏压对AlTiN涂层微观结构、沉积速率等性能影响规律,利用氧化增重方法研究AlTiN抗高温氧化性能。研究结果表明:AlTiN涂层结构致密,AlTiN涂层择优取向生长;涂层沉积速率随着偏压增加而呈现出先增加后降低趋势,最高2.8μm/h;AlTiN涂层晶粒尺寸随着氧化温度的升高而逐渐增加;AlTiN涂层抗氧化温度超过800℃,涂层氧化质量快速增加,900℃氧化后,AlTiN涂层表现出细腻表面形貌;AlTiN涂层氧化后出现致密结构的Al_(2)O_(3)物相。