六方氮化硼层间气泡制备与压强研究

作     者：姜程鑫 陈令修 王慧山 王秀君 陈晨 王浩敏 谢晓明 Jiang Cheng-Xin;Chen Ling-Xiu;Wang Hui-Shan;Wang Xiu-Jun;Chen Chen;Wang Hao-Min;Xie Xiao-Ming

作者机构：上海科技大学物质学院上海200031 中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室上海200050 中国科学院大学材料科学与光电技术学院北京100049 中国科学院超导电子学卓越创新中心上海200050 

出 版 物：《物理学报》 (Acta Physica Sinica)

年 卷 期：2021年第70卷第6期

页      面：372-378页

核心收录：

学科分类：080903[工学-微电子学与固体电子学] 081702[工学-化学工艺] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学] 

基　　金：国家重点研发计划(批准号:2017YFF0206106) 国家自然科学基金(批准号:51772317,91964102) 中国科学院战略性先导科技专项(B类)(批准号:XDB30000000) 上海市“超级博士后”和中国博士后科学基金(批准号:2019T120366,2019M651620)资助的课题 

主　　题：六方氮化硼 等离子体处理 纳米气泡 范德瓦耳斯异质结 

摘      要：六方氮化硼(h-BN)具有六角网状晶格结构和高化学机械稳定性,可以用来封装气体并长期保持稳定,适合用作新型信息器件及微纳机电器件的衬底材料,具有巨大的应用前景.近期,科研人员发现氢原子可以无损穿透多层h-BN,在层间形成气泡,可用作微纳机电器件.本文研究了氢等离子体处理时间对h-BN气泡尺寸的影响.发现随着处理时间的延长,气泡尺寸整体变大且分布密集程度会降低.原子力显微镜的测量发现所制备的h-BN气泡具有相似的形貌特征,该特征与h-BN的杨氏模量和层间范德瓦耳斯作用相关.此外,发现微米尺寸气泡的内部压强约为1—2 MPa,纳米尺寸气泡的内部压强可达到GPa量级.