电子束曝光系统中精密工件台的测量系统

作     者：严伟 胡松 杨勇 周绍林 蒋文波 李艳丽 乔俊仙 Yan Wei;Hu Song;Yang Yong;Zhou Shaolin;Jiang Wenbo;Li Yanli;Qiao Junxian

作者机构：中国科学院光电技术研究所成都610209 

出 版 物：《微纳电子技术》 (Micronanoelectronic Technology)

年 卷 期：2009年第46卷第4期

页      面：244-249页

学科分类：080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学] 

主　　题：电子束曝光机 激光干涉仪 精密工件台 光刻 方向敏感性 

摘      要：介绍了电子束曝光技术的原理。根据精密工件台对测量系统的需要,设计了三轴工件台测量系统布局方式,并简单介绍了激光干涉测量系统所需元器件数量的计算方法。重点讨论了双频激光干涉测量原理、双频光束与运动方向敏感性的关系以及读出装置信号处理方法。在此基础上,对研制的电子束曝光系统精密工件台进行了直线性和垂直性实验测试,其测量分辨率达到0.6nm,测量重复性精度达到±0.06μm,测量绝对误差达到0.011μm。结果表明,采用双频激光测量系统可确保工件台系统测量和定位准确性。