In-Situ Rs and Improvement in Thermal Stability of Nickel Silicides Using Different Interlayer Films
In-Situ Rs and Improvement in Thermal Stability of Nickel Silicides Using Different Interlayer Films作者机构：Department of Electrical Engineering National Cheng Kung University Tainan 701 Taiwan. Institute of Lighting and Energy Photonics National Chiao Tung University Hsinchu 30050 Taiwan
出 版 物：《材料科学与工程（中英文A版）》 (Journal of Materials Science and Engineering A)
年 卷 期：2015年第5卷第3期
页 面：164-170页
学科分类：080903[工学-微电子学与固体电子学] 0821[工学-纺织科学与工程] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 080502[工学-材料学] 082102[工学-纺织材料与纺织品设计]
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