检索结果-南通市图书馆

Silicon-on-Insulator-Based Compact Optical Demultiplexer Employing Etched Diffraction Grating

Chinese Physics Letters 2004年第7期21卷 1265-1267页

作者： WANGWen-Hui TANGYan-Zhe WANGYun-Xiang QUHong-Chang WUYa-Ming LITie YANGJian-Yi WANGYue-Lin LIUMing statekeylaboratoriesoftransducertechnology ShanghaiInstituteofMicrosystemandInformationTechnologyChineseAcademyofSciencesShanghai200050 DepartmentofInformationScienceandElectronicsEngineering ZhejiangUniversityHangzhou310027 MicroelectronicsR&DCentre ChineseAcademyofSciencesBeijing100029

A compact optical demultiplexer with etched diffraction grating (EDG) is designed and fabricated on a silicon-on-insulator (SOI) material. Several 90°turning mirrors are used to bend the waveguides, and the size of the EDG-based demultiplexer is minimized to only 16 x 1.7mm2. The crosstalk is about 18 dB. The on-chip loss is about 18.2 dB, which is composed of about 16.9 dB excess loss and 1.3 dB diffraction loss. Measures to improve the performance are discussed.

关键词： Surfaces interfaces and thin films Optics quantum optics and lasers

来源：

维普期刊数据库评论

在线全文

维普期刊数据库

学校读者我要写书评

暂无评论

欢迎您,

建议与咨询留下您的常用邮箱和电话号码，以便我们向您反馈解决方案和替代方法

时间限定

文献类型

馆藏选择

核心期刊

语言

文献类型

帮助

文字说明：

检索规则说明：

检索范例：

分类表

所选分类

限定检索结果

文献类型

馆藏范围

日期分布

学科分类号

主题

机构

作者

语言

在线全文

请选择保存的检索档案：

请选择收藏分类：

通借通还

欢迎您,

建议与咨询 留下您的常用邮箱和电话号码，以便我们向您反馈解决方案和替代方法

时间限定

文献类型

馆藏选择

核心期刊

语言

文献类型

帮助

文字说明：

检索规则说明：

检索范例：

分类表

所选分类

限定检索结果

文献类型

馆藏范围

日期分布

学科分类号

主题

机构

作者

语言

在线全文

请选择保存的检索档案： 新增检索档案 确定 取消

请选择收藏分类： 新增自定义分类 确定 取消

通借通还

建议与咨询留下您的常用邮箱和电话号码，以便我们向您反馈解决方案和替代方法

请选择保存的检索档案：

请选择收藏分类：