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OPTICAL CHARACTERIZATION OF TiO_2 THIN FILM ON SILICON SUBSTRATE DEPOSITED BY DC REACTIVE MAGNETRON SPUTTERING
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Acta Metallurgica Sinica(English Letters) 2005年 第3期18卷 194-198页
作者： H.Q.Wang H.Shen D.C.Ba B.W.Wang L.S.Wen D.Chen SchoolofMechanismandAutomobile ShenyangInstituteofAeronauticalEngineeringShenyang110034Ghina／／MechanismandAeronauticalCollegeNortheasternUniversityShenyang110004China TheSchoolofPhysicsandEngineering ZhongshanUniversityGuangzhou510275Ghina mechanismandaeronauticalcollege NortheasternUniversityShenyang110004China GuangzhouInstimdeofEnergyConversion Guangzhou510070China InstituteofMetalResearch TheChineseAcademyofSciencesShenyang110016China MaterialandScienceEngineeringAcademy SouthChinaUniversityofTechnologyGuangzhou510641China
TiO2 thin film has attracted considerable attention in recent years, due to its different refractive index and transparency with amorphous and different crysta ls in the visible and near-infrared wavelength region, hi... 详细信息
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