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Formation Mechanism of PPS as Antireflection Coating
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Semiconductor Photonics and Technology 2005年 第1期11卷 32-36,39页
作者: WANGHai-yan SUNXiao-feng ZHANGYu-xiang LIWei-qiang LUJing-xiao keylab.ofmater.phys. InstituteofPhys.Eng.ZhengzhouUniversityZhengzhou450052CHN
The whole chemical etching process on a P-type polycrystalline silicon substrate with resistivity 1-2Ω·cm is described. The formation mechanism of porous polycrystalline silicon(PPS) microstructure was investiga... 详细信息
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TiO_2 Thin Film UV Detectors Deposited by DC Reactive Magnetron Sputtering
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Semiconductor Photonics and Technology 2004年 第4期10卷 245-247页
作者: ZHANGLi-wei YAONing ZHANGBing-lin FANZhi-qin YANGShi-e LUZhan-ling keylab.ofmater.phys. Dept.ofPhys.ZhengzhouUniversityZhengzhou450052CHN
Crystalline TiO2 thin films were prepared by DC reactive magnetron sputtering on indium-tin oxide(ITO) thin film deposited on quartz substrate, the photoconductive UV detector on TiO2 thin films was based on a sandw... 详细信息
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