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贵州中寒武世凯里化石库的埋藏学和生态学初步研究

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古生物学报 1999年第S1期38卷 28-57,171-174页

作者：朱茂炎 B.D.Erdtmann 赵元龙中国科学院南京地质古生物研究所南京210008 TechnischeUniversittBerlin Sekr.EB10ErnstReuterPlatz1berlin10587 贵州工业大学资源工程系贵阳550003

在详细的地层剖面和化石标本野外观察和室内研究的基础上 ,初步分析了贵州中寒武世凯里化石库的埋藏环境、化石保存状态和保存方式、以及矿物成分。认为凯里化石库形成于较深水的陆棚环境 ,海底位于风暴浪基面之下。由于有频率较高的间... 详细信息

在详细的地层剖面和化石标本野外观察和室内研究的基础上 ,初步分析了贵州中寒武世凯里化石库的埋藏环境、化石保存状态和保存方式、以及矿物成分。认为凯里化石库形成于较深水的陆棚环境 ,海底位于风暴浪基面之下。由于有频率较高的间歇性沉积事件的侵入 ,沉积速率高 ,海底附近的生物群落的发展经常被沉积事件所中断 ,因此 ,化石库内很少有群落较长时间演替而形成的多类别生物尸体堆积的硬底层。正常堆积的化石层通常由一些发育时间较短的群落演替序列构成。一些能量较强的沉积事件对一些逃跑能力差的生物或原位快速掩埋 (如始海百合类、水母状动物等 ) ,或被卷入沉积物流体内后被快速埋藏 (如浮游型的三叶虫、水母状动物等 ) ,为凯里化石库中特异化石的形成提供了先决条件。沉积事件普遍较弱是凯里化石库内特异化石种类单调的最重要原因。底内生物的缺乏、极细颗粒的粘土沉积物对封闭在泥内的生物的完整保存起到了保护作用。早期成岩矿物 (黄铁矿 )对阻止软体腐烂和复制软体组织起到了关键性的作用。

关键词：凯里化石库埋藏学生态学中寒武世

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中国特马豆克阶笔石地层述评

地层学杂志 2005年第3期29卷 215-235页

作者：张元动王志浩冯洪真骆天天 B.-D.Erdtmann 中国科学院南京地质古生物研究所南京大学地球科学系 Institut für Angewandte Geowissenschaften Technische Universitt Berlin Ernst-Reuter-Platz 1 Sekr.EB10 D-10587 Berlin Germany

特马豆克阶是奥陶系第一个顶底界均已确立全球界线层型的年代地层单元,由于这两个GSSP都不在我国,因此如何在我国各个地区准确识别这两条界线,了解阶内的笔石和牙形刺序列,对我国奥陶纪地层和古生物研究具有重要意义。简要介绍特马豆克... 详细信息

特马豆克阶是奥陶系第一个顶底界均已确立全球界线层型的年代地层单元,由于这两个GSSP都不在我国,因此如何在我国各个地区准确识别这两条界线,了解阶内的笔石和牙形刺序列,对我国奥陶纪地层和古生物研究具有重要意义。简要介绍特马豆克阶和奥陶系底界全球层型的纽芬兰GreenPoint剖面及特马豆克阶顶界全球层型的瑞典Diabasbrottet剖面,对界线附近的生物地层进行了分析讨论,并对GSSP的确立过程作了简要回顾。在以往大量成果积累及近年来工作的基础上,对我国特马豆克阶的笔石序列提出了新的观点:根据对吉林大阳岔等剖面的最新研究,华北板块的特马豆克阶笔石地层从下至上可以识别出4个笔石带——Rhabdinoporaflabelliformisparabola带、Anisograptusmatanensis带、Psigraptusjacksoni带和Aorograptusvictoriae带,弃用以往长期使用的Adelograptus-Clonograptus带;同时提出华南的特马豆克阶从下到上可以识别出7个笔石带——Rhabdinopora?taojiangensis带,***带,Anisograptusmatanensis带,***带,Aorograptusvictoriae带,Acanthograptussinensis带,Hunnegraptuscopiosus带。对采自四川古蔺纳羊箐桐梓组顶部笔石标本的研究表明,该层位相当于特马豆克期末的Hunnegraptuscopiosus带。此外还将我国的特马豆克阶笔石序列与国外若干主要地区进行了对比。

关键词：奥陶系特马豆克阶笔石序列牙形刺序列 GSSP 华北华南

领先技术能挽救EDA行业吗?——商业化的半导体设计软件业未雨绸缪

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电子经理世界 2006年第6期 27-27页

作者： Ann Steffora Mutschler eb

也许从表面上看,EDA (电子设计自动化)领域风平浪静,但其实一些大的改变正在酝酿着。由于新一代的EDA领导人正在逐渐浮出水面,因此这些变化也显得尤为惹眼。

关键词：半导体设计 EDA 电子设计自动化摩尔定律代工厂半导体制造纳米技术 Cadence 数据模型

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传统EDA公司面临冲击

电子经理世界 2006年第10期 15-15页

作者： Ann Steffora Mutschle eb

将硬件设计工作“隔墙”扔给软件部门完成的日子是否要最终结束呢?如果英国牛津郡Celoxica公司提供的工具能够流行起来的话,这一天也许就将来临。到目前为止,Celoxica公司的绝大部分业务仍然来自其最大的几个客户,像半导体领域的富士通... 详细信息

将硬件设计工作“隔墙”扔给软件部门完成的日子是否要最终结束呢?如果英国牛津郡Celoxica公司提供的工具能够流行起来的话,这一天也许就将来临。到目前为止,Celoxica公司的绝大部分业务仍然来自其最大的几个客户,像半导体领域的富士通,这家公司使用Celoxica的工具进行原型芯片的设计以发现芯片的缺陷,在芯片制造之前避免进行昂贵的重新设计。

关键词：芯片制造半导体领域 EDA 牛津郡这一天赛灵思系统工程师另类投资市场开发者特定应用

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EDA设计方法学将发生改变

电子经理世界 2006年第6期 26-26页

作者： Ann Steffora Mutschler eb

系统级设计的复杂性正在改变设计工具的发展路线随着集成给消费电子带来日益增长的复杂性并扩大了市场机会,SoC设计必须瞄准多种多样的产品。

关键词：发展路线系统级设计设计方法学硅器件初创公司原型设计 EDA设计资本支出东芝公司 Men

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EDA的低功耗游戏

电子经理世界 2007年第1期 14-14页

作者： Ann Steffora Mutschler eb

随着芯片设计转移到90nm和65nm制程,芯片制造商面临着新的挑战,包括温度、稳定性及电源可靠性或电源效率的差异性等方面的挑战。

关键词：芯片制造商 EDA 电源效率电源可靠性副总裁市场领袖 Mentor Cadence 嵌入式软件

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多晶硅供应告急

电子经理世界 2006年第6期 17-17页

作者： Russ Arensman eb

太阳能工业正在同芯片工业竞争晶片供应光电池制造商SunPower 2006年的收入有望翻一番以上,从去年的8,000万美元到今年的超过2亿美元,这一切源于急速增长的全球太阳能需求。不过。

关键词：电池制造商芯片制造商工业竞争半导体制造商赛普拉斯市场研究公司半导体设备半导体工业材料

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中国设计能力呈现增长

电子经理世界 2007年第1期 16-16页

作者： Ben Beutler eb

据市场研究机构iSuppli数据,2006年,在电子设计对全球半导体开支影响力最大的国家中,中国将超过德国和韩国,名列第四(iSuppli的数据来自营业额合计占到全球芯片市场75%的172家OEM厂商,并据此推断哪些国家拥有包括芯片选择在内的电子产... 详细信息

据市场研究机构iSuppli数据,2006年,在电子设计对全球半导体开支影响力最大的国家中,中国将超过德国和韩国,名列第四(iSuppli的数据来自营业额合计占到全球芯片市场75%的172家OEM厂商,并据此推断哪些国家拥有包括芯片选择在内的电子产品设计能力)"。以绝对美元计算,2006年,中国以设计带动的半导体开支增长将名列世界第三。"ISuppli分析师Min-Sun Moon介绍道。

关键词：市场研究机构电子产品设计芯片选择设计能力营业额增长良性竞争增长比例 managing 国

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业界着手解决IP复用问题

电子经理世界 2007年第1期 16-16页

作者： Ben Beutler eb

寻求降低成本和缩短上市周期是一个很久以来人们一直在探索的问题,这个问题催生出诸如亨利福特的组装生产线,以及近来的6sigma方法学等创新。显然,SOC设计人员和制造业者需要面临同样的问题。

关键词：上市周期集成模型 sigma IP复用降低成本 SPRINT 提供商芯片供应商开放接口项目