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检索条件"机构=ASML"
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不断攀登前沿科技顶峰的asml——访asml中国区技术行销经理程天风先生
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中国集成电路 2006年 第3期15卷 80-81页
作者: 胡芃 程天风 asml中国区
asml公司致力于为客户提供最佳的光刻设备与技术以支持复杂的集成电路制造。asml目前在全球欧美和亚洲的50个地区设有分支机构,拥有5000位员工。对于国内代工业水平的不断发展与提升,asml作出了巨大的贡献。SEMICONChina2006展会召开前... 详细信息
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以浸没式技术引领光刻设备市场(英文)
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电子工业专用设备 2007年 第4期36卷 19-21,59页
作者: asml Netherlands asml Netherlands
在过去的几年中,asml公司以创新的浸没式技术引领着光刻设备市场,又一次刷新了半导体制造的路线图。通过对浸没式光刻技术的再现和提升。
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On robustness of an AMB suspended energy storage flywheel platform under characteristic model based all-coefficient adaptive control laws
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Frontiers of Information Technology & Electronic Engineering 2019年 第1期20卷 120-130页
作者: Xujun LYU Long DI Zongli LIN College of Engineering Huazhong Agricultural University asml-HMI Charles L.Brown Department of Electrical and Computer Engineering University of Virginia
A characteristic model based all-coefficient adaptive control law was recently implemented on an experimental test rig for high-speed energy storage flywheels suspended on magnetic bearings. Such a control law is an i... 详细信息
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Spatial Aberrations in High-Order Harmonic Generation
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Ultrafast Science 2024年 第1期4卷 35-43页
作者: Marius Plach Federico Vismarra Elisa Appi Vénus Poulain Jasper Peschel Peter Smorenburg David PO’Dwyer Stephen Edward Yin Tao Rocío Borrego-Varillas Mauro Nisoli Cord LArnold Anne L’Huillier Per Eng-Johnsson Department of Physics Lund UniversityP.0.Box 11822100 LundSweden Department of Physics Politecnico di Milano20133 MilanoItaly Institute for Photonics and Nanotechnologies IFN-CNR20133 MilanoItaly asml Research ASML Netherlands B.V.5504 DRVeldhovenNetherlands
We investigate the spatial characteristics of high-order harmonic radiation generated in argon and observe cross-like patterns in the far *** analytical model describing harmonics from an astigmatic driving beam revea... 详细信息
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光刻永恒
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半导体技术 2005年 第6期30卷 23-27页
作者: 程天风 asml China
由于新近的技术突破,先前应用瓶颈在光刻领域得到解决方案。如今浸没式氟化氩(ArF)光刻技术已经被ITRS列为45nm,甚至于32nm节点的关键技术。如果要达到路图指标,新的介面液体,偏振光应用都需要继续研发。实验室的数据也证实了这些理论... 详细信息
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Investigation on the influence of vortex generator on particle resuspension
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Particuology 2024年 第3期86卷 126-136页
作者: Dongchi Yu Jun-Li Lin Jin-Han Xie asml 80W Tasman DrSan Jose95134CaliforniaUSA Department of Mechanics and Engineering Science at College of Engineering and State Key Laboratory for Turbulence and Complex Systems Peking UniversityBeijing100081China
The vortex generator(VG)and its well-known effect in flow optimization are widely studied and employed across different engineering ***,while the same working principles of VG may be well suited for the applications o... 详细信息
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Characteristic model based all-coefficient adaptive control of an AMB suspended energy storage flywheel test rig
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Science China(Information Sciences) 2018年 第11期61卷 113-127页
作者: Xujun LYU Long DI Zongli LIN Yefa HU Huachun WU School of Mechanical and Electronic Engineering Wuhan University of Technology Hubei Provincial Engineering Technology Research Center for Magnetic Suspension asml-HMI 1762 Automation Pkwy  4. Charles L.Brown Department of Electrical and Computer Engineering University of Virginia
Feedback control of active magnetic bearing(AMB) suspended energy storage flywheel systems is critical in the operation of the systems and has been well studied. Both the classical proportional-integralderivative(PID)... 详细信息
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Application of resist-profile-aware source optimization in 28 nm full chip optical proximity correction
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Journal of Semiconductors 2017年 第7期38卷 83-88页
作者: Jun Zhu David Wei Zhang Chinte Kuo Qing Wang Fang Wei Chenming Zhang Han Chen Daquan He Stephen D.Hsu State Key Laboratory of ASIC and System School of Microelectronics Fudan University Shanghai 200433 China Shanghai Huali Microelectronics Corp. Shanghai 200433 China asml Brion USA
As technology node shrinks, aggressive design rules for contact and other back end of line(BEOL)layers continue to drive the need for more effective full chip patterning optimization. Resist top loss is one of the m... 详细信息
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用于图像传感器制造的光刻技术
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中国集成电路 2007年 第1期16卷 47-51页
作者: Geoffrey Phillipps Rudy Pellens asml Netherlands B.V asml
引言任何一种数字成像的核心都是图像传感器.它的基本结构包括一个能把光转换为图像的有源像素矩阵.数码相机和带相机的移动电话带动了图像传感器需求市场的快速增长,它们已成为主要IC制造商大量生产的产品之一.
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80nm应用中的高数位孔径,双载具193nm TWINSCAN扫描分步投影机
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半导体技术 2004年 第2期29卷 7-11,34页
作者: 程天风 asml阿斯麦光刻设备有限公司
针对次100nm的生产,asml研发了一个新光刻系统,其中克服了许多底k1解晰度的挑战。其中包含0.85NA双载具193nmTWINSCAN的设计、性能与一些初步的量测数据。80nm的生产必须要有多方面的量测与控制来达到高准确度的线宽(CD)与对准(Overlay... 详细信息
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