检索结果-南通市图书馆

基于小样本数据驱动模型的硅片线切割质量预测

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机床与液压 2024年第1期52卷 66-73页

作者：李博文张宏帅赵华东胡晓亮田增国郑州大学机械与动力工程学院河南郑州450001 麦斯克电子材料股份有限公司河南洛阳471003 郑州大学物理(微电子)学院河南郑州450001

在单晶硅加工中,硅片多线切割质量检测耗时和检测成本高造成硅片质量检测难。因此,提出一种基于生成对抗网络(WGAN-GP)数据处理与自注意力残差网络(SeResNet)的硅片质量预测方法。分析多线切割的机制,确定影响硅片质量的工艺参数,建立... 详细信息

在单晶硅加工中,硅片多线切割质量检测耗时和检测成本高造成硅片质量检测难。因此,提出一种基于生成对抗网络(WGAN-GP)数据处理与自注意力残差网络(SeResNet)的硅片质量预测方法。分析多线切割的机制,确定影响硅片质量的工艺参数,建立数据样本,使用WGAN-GP对样本数据进行数据增强。在此基础上,建立基于SeResNet的硅片总体厚度偏差预测模型。以硅片的多线切割加工过程监控数据为模型验证数据,对构建的硅片总体厚度偏差预测模型进行验证。实验结果表明:该模型具有良好泛化性和高准确率,有效解决了小样本数据下的预测难题,实现了平均相对误差小于10%的硅片总体厚度偏差预测,所以基于数据驱动的硅片质量预测来代替硅片加工中的质量检测具有重要的现实意义。

关键词：硅片线切割总体厚度偏差预测生成对抗网络数据增强

基于去趋势波动分析方法的直拉单晶硅拉速曲线研究

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计算机应用文摘 2024年第18期40卷 154-156页

作者：汤辉吴彦国洛阳文化旅游职业学院教育学院河南洛阳471000 麦斯克电子材料股份有限公司技术部河南洛阳471000

直拉单晶硅的生长是半导体工业中的关键步骤,其过程具有动态连续性。提拉速度的波动直接影响最终产品的成品率和质量。在直拉单晶硅的等径生长过程中,稳定的提拉速度有助于提高晶体的质量;而提拉速度波动过大会导致晶体中出现原生缺陷,... 详细信息

直拉单晶硅的生长是半导体工业中的关键步骤,其过程具有动态连续性。提拉速度的波动直接影响最终产品的成品率和质量。在直拉单晶硅的等径生长过程中,稳定的提拉速度有助于提高晶体的质量;而提拉速度波动过大会导致晶体中出现原生缺陷,甚至可能引发晶体直径控制的失效。采用去趋势波动分析法(DFA)对直拉单晶硅的拉速曲线进行处理,结合具体的单晶硅生长过程,分析了拉速出现较大波动的原因。结果表明,DFA对研究直拉单晶硅拉速曲线具有较好的适用性,并且结合工艺过程开展的研究对优化工艺和提高生产稳定性具有重要的指导意义。

关键词：单晶硅拉速 MATLAB 去趋势波动分析

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纳米金属氧簇EUV光刻胶及其性能影响因素

中国科学:化学 2024年

作者：邢攸美胡涛方伟华尹云舰高立江刘伟鑫徐钉金海安王国杰杭州格林达电子材料股份有限公司北京科技大学材料科学与工程学院中国电子材料行业协会

随着半导体行业的发展,先进电子技术亟需更高电子元件密度的集成电路(integrated circuit,亦称积体电路).在集成电路光刻技术(photolithography,亦称微影技术)中,图案化特征结构的尺寸主要取决于曝光光源的波长.为将图形化尺寸推到更小... 详细信息

随着半导体行业的发展,先进电子技术亟需更高电子元件密度的集成电路(integrated circuit,亦称积体电路).在集成电路光刻技术(photolithography,亦称微影技术)中,图案化特征结构的尺寸主要取决于曝光光源的波长.为将图形化尺寸推到更小的极限,曝光光源的波长从紫外发展到极紫外.近年来,波长为13.5 nm的极紫外光(extreme ultraviolet, EUV)成为新一代光刻技术的光源,是实现10 nm及以下制程的关键因素.除光源和光刻机外,光刻胶(photoresist,亦称光阻)也是决定图案化特征尺寸的重要因素,其关键性能指标包括分辨率、灵敏度、线边缘粗糙度和线宽粗糙度等.目前适配于EUV光源的光刻胶主要有聚合物、分子玻璃和金属基材料等几类,其中,纳米金属氧簇EUV光刻胶具备高灵敏度、高分辨率和低粗糙度等性能,成为半导体集成电路行业的研究热点.本文主要介绍近年来纳米金属氧簇EUV光刻胶体系的组成、结构特征及其性能影响因素,采用多种表征手段,从分辨率、灵敏度和粗糙度等角度阐述光刻胶成分结构及环境因素对光刻过程及图案形成的影响,多层次了解其光刻机理及性能平衡策略.

关键词：纳米结构金属氧簇极紫外光刻胶半导体集成电路

低泡型非离子Gemini表面活性剂的合成及性能研究

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高分子学报 2024年第10期55卷 1356-1364页

作者：马杰文张之钧李雅琪胡斌邢攸美尹云舰方伟华吴振王国杰北京科技大学材料科学与工程学院北京100083 杭州格林达电子材料股份有限公司杭州310051

低泡型非离子双子(Gemini)表面活性剂在工业清洗、光刻胶显影等领域有着广泛的应用.以二叔戊基氢醌为母体在碱催化的条件下与环氧乙烷通过开环反应合成了3种(P1、P2和P3)不同聚氧乙烯链长度的非离子Gemini表面活性剂,通过表面张力仪、... 详细信息

低泡型非离子双子(Gemini)表面活性剂在工业清洗、光刻胶显影等领域有着广泛的应用.以二叔戊基氢醌为母体在碱催化的条件下与环氧乙烷通过开环反应合成了3种(P1、P2和P3)不同聚氧乙烯链长度的非离子Gemini表面活性剂,通过表面张力仪、接触角测量仪等研究了不同聚氧乙烯链长度对表面张力、润湿性能、乳化性能、泡沫性能的影响.在相同浓度下,随着聚氧乙烯链长度的增加,表面张力和接触角增加,乳化能力逐渐增强,发泡体积逐渐增加.此外,3种非离子Gemini表面活性剂均具有优异的低泡性能,表面活性剂P1发泡量低于传统表面活性剂Tween-80的1%,在工业清洗、光刻胶显影等领域中具有巨大的应用潜力.

关键词：非离子Gemini表面活性剂低泡性表面张力润湿性能乳化性能

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热解石墨晶体在X射线荧光仪器的应用进展

光谱学与光谱分析 2024年第7期44卷 1820-1826页

作者：汪淼程大伟贾云海李建强北京科技大学北京100083 钢铁研究总院有限公司北京100081 钢研纳克检测技术股份有限公司北京100094

石墨晶体具有优良的化学惰性、高熔点、强弹性和独特的电子性能,广泛应用于诸多领域,由于热解石墨具有出色的高反射率,在XRF技术中的运用越来越广泛。热解石墨是一种层状结构的人造合成石墨材料,在接近3000℃的温度下进行退火可以调整... 详细信息

石墨晶体具有优良的化学惰性、高熔点、强弹性和独特的电子性能,广泛应用于诸多领域,由于热解石墨具有出色的高反射率,在XRF技术中的运用越来越广泛。热解石墨是一种层状结构的人造合成石墨材料,在接近3000℃的温度下进行退火可以调整材料结构,当退火伴随变形时结构变化增强,退火温度和变形类型的不同组合会导致产生具有不同结构的热解石墨,主要的热解石墨有两种分别是高定向热解石墨(HOPG)和高退火热解石墨(HAPG)。HOPG晶体镶嵌度通常在0.3°~3°,具有极高的积分反射率,在2 keV到几十keV的能量范围内,与完美晶体相比,它的积分反射率高一到两个数量级,但能量分辨率稍低。HOPG的能量分辨率主要受镶嵌度和Bragg反射的本征宽度的影响,较大的镶嵌度会导致能量分辨率显著降低。HAPG晶体是一种类似于HOPG晶体的改性材料,晶体的镶嵌度非常低,与相同厚度的HOPG晶体相比,HAPG晶体的镶嵌度约为其1/5,一般是0.05°~0.1°,有较高的能量分辨率,积分反射率会有所下降;HAPG晶体可以单层沉积在基材上并可以弯曲成小半径等几乎任何形状,且不会显著降低能量分辨率。石墨晶体在X射线荧光领域主要是用作单色器,可以有效消除白光、荧光及X射线管中的杂光等原因所造成的高背景,这些优异的性质使其被广泛应用于Von Hamos光谱仪和能量色散X射线荧光仪,Von Hamos光谱仪加上热解石墨晶体的镶嵌聚焦,可以得到较好的积分反射率和能量分辨率;热解石墨晶体在能量色散X射线荧光仪中可以提高分析的灵敏度和检出限。在研究X射线吸收精细结构光谱、测量放射性元素、乳腺X光检查等方面都有较好的表现。文章回顾了近二十年热解石墨晶体在X射线仪器的研究及应用。

关键词： HOPG HAPG 镶嵌度 XRF

Nb元素掺杂对亚稳相TbCu_(7)型SmFe结构稳定性研究

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稀有金属 2024年第1期48卷 11-16页

作者：林笑罗阳王子龙于敦波肖伟杨伦伟有研稀土新材料股份有限公司北京100088 有研工程技术研究院有限公司材料计算中心北京100088

采用基于密度泛函理论的第一性原理计算方法结合实验数据研究Nb元素掺杂对亚稳相TbCu_(7)型SmFe结构稳定性影响。进行了TbCu_(7)型SmFe超胞的搭建,并由计算结果分析了晶胞参数c/a比值、Nb元素占位、高温下Nb元素占位及Nb含量对TbCu_(7)... 详细信息

采用基于密度泛函理论的第一性原理计算方法结合实验数据研究Nb元素掺杂对亚稳相TbCu_(7)型SmFe结构稳定性影响。进行了TbCu_(7)型SmFe超胞的搭建,并由计算结果分析了晶胞参数c/a比值、Nb元素占位、高温下Nb元素占位及Nb含量对TbCu_(7)结构稳定性影响。由计算结果可得,相对于Fe-3g,Fe-6l晶位,Nb元素取代Fe-2e晶位时晶胞具有最低的结合能与形成能,说明Nb进入晶胞结构时优先占据Fe-2e晶位,并且此时结构最稳定;当温度大于870℃时,Nb元素在Fe-2e晶位的占位概率开始下降,Fe-61,Fe-3g晶位的概率开始升高。同时X射线衍射(XRD)图谱表明在850℃左右,TbCu_(7)型SmFe开始向2∶17型SmFe转变,这说明计算结果和实验结果可以很好地吻合起来,由此证明Nb元素占据Fe-2e晶位对结构有很好的稳定作用;随着Nb含量的增加,晶胞发生膨胀,晶胞参数c/a比值开始增大,从另一方面也说明Nb元素的添加可以有效地稳定TbCu_(7)结构。

关键词：钐铁氮第一性原理亚稳相稳定性

不同TiO2和Nb2O5含量对BaO-SrO-PbO-TiO2-Nb2O5-SiO2玻璃陶瓷介电性能的影响

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稀有金属 2024年第10期 1502-1509页

作者：陈均优张庆猛周敏赵艳芸有研工程技术研究院有限公司先进电子材料事业部

使用熔融-快冷-可控结晶技术，制备出了不同Ti O2和Nb2O5含量的Ba O-Sr O-Pb O-Ti O2-Si O2-Nb2O5纳米复合介电材料，并对其介电性能进行了研究。结果表明：800℃结晶处理后的样品析出了烧绿石结构Pb2Nb2O7相、钨青铜结构（Ba,Sr,Pb）Nb... 详细信息

使用熔融-快冷-可控结晶技术，制备出了不同Ti O2和Nb2O5含量的Ba O-Sr O-Pb O-Ti O2-Si O2-Nb2O5纳米复合介电材料，并对其介电性能进行了研究。结果表明：800℃结晶处理后的样品析出了烧绿石结构Pb2Nb2O7相、钨青铜结构（Ba,Sr,Pb）Nb2O6相和钙钛矿结构（Sr,Pb）Ti O3相，其中Pb2Nb2O7相衍射峰强度随Ti O2/Nb2O5比例的上升而增强；900和1000℃结晶处理后，Ti O2含量较多的样品中依然存在Pb2Nb2O7相，且衍射峰强度随结晶处理温度的上升而下降。微观结构分析结果显示在1000℃结晶处理后，所有样品的晶体颗粒近似球形。通过对Ba O-Sr O-Pb O-Ti O2-Si O2-Nb2O5体系中Ti O2与Nb2O5含量的调整，获得了介电性能突出的玻璃陶瓷样品，Ti O2含量为12%,Nb2O5含量为24%的玻璃陶瓷样品获得了最大介电常数（～1310），同时介电损耗维持在0.0093的较低水平，作为高压陶瓷电容器介质展现出了良好的应用前景。

关键词：玻璃陶瓷介电性能高介电常数低介电损耗

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钙钛矿量子点在光伏电池中的应用进展

材料导报 2024年第10期38卷 14-26页

作者：何敬敬王旭牛强内蒙古鄂尔多斯电力冶金集团股份有限公司国家企业技术中心内蒙古鄂尔多斯016064

近年来,钙钛矿量子点以其带隙可调、性能稳定、可溶液加工等独特优势被广泛应用于光伏能源领域,并逐渐显示出广阔的应用前景。本文基于钙钛矿量子点在太阳能电池领域的应用,重点归纳了其分别作为光吸收材料、钝化材料、界面缓冲材料等... 详细信息

近年来,钙钛矿量子点以其带隙可调、性能稳定、可溶液加工等独特优势被广泛应用于光伏能源领域,并逐渐显示出广阔的应用前景。本文基于钙钛矿量子点在太阳能电池领域的应用,重点归纳了其分别作为光吸收材料、钝化材料、界面缓冲材料等方面的进展;同时探讨了目前钙钛矿量子点在能源领域商业化应用中面临的稳定性、铅毒性、成膜工艺等挑战和已报道的解决方案;最后,总结和展望了具有更高光电性能和稳定性的钙钛矿量子点的发展方向,旨在通过对其在光伏电池应用的系统梳理,推动量子点商业化应用进程。

关键词：钙钛矿量子点太阳能电池钝化稳定性

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废旧金属分类回收技术及应用研究进展

冶金分析 2024年第10期 31-37页

作者：徐昕霞刘佳崔飞鹏李亚强郭飞飞沈学静钢研纳克检测技术股份有限公司辽宁材料实验室

基于算法、成分的废旧金属智能分拣技术逐渐崭露头角，包括机器视觉、X射线荧光光谱(XRF)、X射线衍射形貌术(XRT)、激光诱导击穿光谱(LIBS)技术等，本文综述了这些技术在废旧金属分类方面的最新进展。机器视觉已实现产业化应用示范，其... 详细信息

基于算法、成分的废旧金属智能分拣技术逐渐崭露头角，包括机器视觉、X射线荧光光谱(XRF)、X射线衍射形貌术(XRT)、激光诱导击穿光谱(LIBS)技术等，本文综述了这些技术在废旧金属分类方面的最新进展。机器视觉已实现产业化应用示范，其自动化程度高，不过对环境敏感的问题需要进一步解决；X射线荧光光谱/X射线衍射形貌术技术的元素识别能力强但适用的金属种类有限；目前市场上针对金属、塑料及矿石的商业化仪器已相当成熟，LIBS技术的元素检测范围广，理论上可以覆盖全元素周期表，但检测效率较低，且技术本身仍在研究发展中。各技术均有优缺点，需融合创新以优化分类效果。未来应多技术联用提升分类能力，定制化满足市场需求，自主研发增强核心竞争力，全流程自动化提高效率，结合人工智能(AI)、区块链、云计算等技术，推动废旧金属智能分类产业迈向新台阶。

关键词：废旧金属分类回收激光诱导击穿光谱(LIBS) 机器视觉 X射线荧光光谱(XRF) X射线衍射形貌术(XRT)

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