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检索条件"机构=无锡华晶电子集团公司中央研究所"
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基于ECOC平衡随机森林的雷达降水粒子分类
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系统工程与电子技术 2024年 第5期46卷 1599-1606页
作者: 李海 田众 钱君 中国民航大学天津市智能信号与图像处理重点实验室 天津300300 中国航空工业集团公司雷华电子技术研究所 江苏无锡214063
针对数据不平衡情况下的降水粒子分类问题,提出了一种基于纠错输出码(error correcting output code,ECOC)平衡随机森林的双偏振气象雷达降水粒子分类方法。首先,将多类别降水粒子数据集编码为多个二分类数据集;然后,对二分类数据集进... 详细信息
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汽车电子电气架构的发展及趋势
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电子与封装 2024年 第1期24卷 78-85页
作者: 周伟 陈旭乾 葛成华 中国电子科技集团公司第五十八研究所 江苏无锡214035
随着汽车功能的日益增加,传统的电子电气(EE)架构面临很大的挑战,从而迫使整车的电子电气架构不断地演进,从传统的分布式向集中式转变,从面向信号的软件架构向面向服务的软件架构转变,从控制局域网络(CAN)、局域互联网络(LIN)总线向车... 详细信息
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基于阴极往复运动的TGV电铸铜实心填充工艺
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微纳电子技术 2024年 第3期61卷 151-159页
作者: 刘佳琪 詹晓非 朱增伟 叶刚 夏晨辉 南京航空航天大学机电学院 南京210016 中国电子科技集团公司第五十八研究所 江苏无锡214035
玻璃通孔(TGV)转接板因其具有优良的高频电学特性,在先进封装领域受到广泛关注。然而随着TGV深宽比的不断增加,采用传统的阴极定轴旋转式电铸工艺,其填充难度与成本将随之提高。为实现高深宽比TGV的无缺陷填充,减少电铸耗时和成本,提出... 详细信息
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双注入技术进行低剂量监控
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固体电子研究与进展 1992年 第3期12卷 255-260页
作者: 彭进 黄冰 中国华晶电子集团公司中央研究 无锡214035
研究了影响双注入技术的各种因素及双注入技术的灵敏度,并与C—V技术进行比较。结果表明,双注入技术不仅克服了C-V技术的缺点,而且灵敏度高(可大于1),可靠性好,适用于低剂量(10^(10)~10^(12)cm^(-2))注入监控。
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军用ASIC及其对策
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半导体技术 1992年 第3期8卷 36-61,64页
作者: 罗浩平 李宗炳 蔡金华 张纯蓓 方旌堃 华晶电子集团公司中央研究 无锡214035
本文阐述了ASIC(专用集成电路)在现代国防中的地位和作用,简要介绍了军用ASIC的特点,阐述了军用ASIC与民用ASIC的相互关系。以大量的数据和资料综述了ASIC的发展和市场情况,特别对美国等国外军用ASIC发展模式和特点进行了分析和剖析。... 详细信息
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VHDL语言在数字系统设计中的应用
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固体电子研究与进展 1995年 第2期15卷 157-163页
作者: 王科鸣 许乐平 中国华晶电子集团公司中央研究 江苏广播电视大学
电子设计自动化领域内,用硬件描述语言VHDL和逻辑综合方法是目前最先进的CAD手段之一。笔者通过数字大规模集成电路的设计过程介绍VHDL的文件组织、用VHDL对数字系统的分层设计和综合策略。
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一条多电路品种的CMOS科研开发工艺线运转机制探讨
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半导体技术 1993年 第5期9卷 61-64,F003页
作者: 王万业 中国华晶电子集团公司中央研究 无锡214035
本文从技术和技术管理的角度,研究探讨了一条多电路品种的CMOS科研开发线的运行机制.从多方面阐述了为保持这样一条科研开发线高水平、高效益运转必须考虑的一些基本准则.本文阐述了一种自调整高效运筹法,介绍了该方法的基本要点、运... 详细信息
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硅栅CMOS倒阱工艺研究
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半导体技术 1992年 第5期8卷 21-25页
作者: 刘显明 郑宜钧 张义强 中国华晶电子集团公司中央研究 无锡214061
我们从八十年代中期研究的一种倒阱工艺,采用高能注阱,使杂质峰位于阱内,形成载流子减速场,有利于克服常规工艺的自锁效应。阱深可由6~7μm降为2μm左右,能克服常规工艺的许多局限性,工艺简单,省掉高温推阱工艺,有利于大圆片低温工艺... 详细信息
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数字IC可测性设计和自动测试生成技术
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电子 1998年 第5期28卷 362-364页
作者: 刘明远 邵锦荣 中国华晶电子集团公司中央研究
描述了一种自动局部扫描可测性设计方法,该方法在电路内部提供附加逻辑,把时序元件串成一条扫描通路,辅以适当的控制信号,使时序元件和组合元件分离开,从而达到可测试的目的。介绍了一种改进的PODEM测试生成算法和一种基于模... 详细信息
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等离子过程引起的Si-SiO_2结构损伤评估
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半导体技术 1994年 第2期10卷 42-45,50页
作者: 马宏 涂继云 中国华晶电子集团公司中央研究
本文利用C-V测试的方法,研究了MOS工艺中等离子过程对不同栅材料的Si-SiO_2结构的影响,探讨了等离子损伤的形成机理,并就不同的退火条件进行评估。
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