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双(亚烷二硫基)四硫富瓦烯衍生物的合成及其电化学性质

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有机化学 2002年第11期22卷 873-878页

作者：迟兴宝李有桂蒋昌盛淮北煤炭师范学院化学系淮北235000 中国科学技术大学化学系合肥230000

以四 (氰乙硫基 )四硫富瓦烯为原料经醇钠消去氰乙基生成四硫富瓦烯四硫盐 ,再与二元卤代烷烃化反应 ,除了得到三种文献报道的双 (亚烷二硫基 )四硫富瓦烯衍生物外 ,还得到三种新的“四桥”双 -四硫富瓦烯衍生物 ,为“桥式”双 -四硫富... 详细信息

以四 (氰乙硫基 )四硫富瓦烯为原料经醇钠消去氰乙基生成四硫富瓦烯四硫盐 ,再与二元卤代烷烃化反应 ,除了得到三种文献报道的双 (亚烷二硫基 )四硫富瓦烯衍生物外 ,还得到三种新的“四桥”双 -四硫富瓦烯衍生物 ,为“桥式”双 -四硫富瓦烯衍生物的合成提出了一种新的方法 .并研究了它们的循环伏安图、电化学性质和紫外

关键词：四(氰乙硫基)四硫富瓦烯双(烷撑二硫基)四硫富瓦烯循环伏安图电化学性质紫外—可见光光谱合成醇钠

一种判断羧酸衍生物加成-消除反应活性的方法

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化学通报 1992年第12期 43-45页

作者：丁金昌温州师范学院化学系浙江325003

羧酸衍生物与亲核试剂反应的历程已经研究清楚,首先是亲核试剂进攻羰基碳原子发生亲核加成,然后进行消除,属于加成-消除反应。其活性次序为:RCOX>(RCO)_2O>RCO_2R′>RCONHR′,此活性次序可用电子效应加以解释。由于与羰基直接相连的—(X... 详细信息

羧酸衍生物与亲核试剂反应的历程已经研究清楚,首先是亲核试剂进攻羰基碳原子发生亲核加成,然后进行消除,属于加成-消除反应。其活性次序为:RCOX>(RCO)_2O>RCO_2R′>RCONHR′,此活性次序可用电子效应加以解释。由于与羰基直接相连的—(X|¨)、—(O|¨)COR、—(O|¨)R′、—(N|¨)

关键词：羧酸衍生物加成消除反应

SDS H_2O-C_4H_9OH体系层状液晶的结构及增溶作用

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物理化学学报 1990年第4期6卷 465-469页

作者：戴乐蓉郭荣北京大学物理化学研究所扬州师范学院化学系

表面活性剂溶液中关于胶束和微乳的形成及性质已有大量研究.近年来表面活性剂分子所形成的层状液晶的结构和它的增溶.渗透、扩散作用的研究引起了广泛的关注.它的性质和结构的研究在实际与理论上皆有很大的意义,特别是在生物体系中显得... 详细信息

表面活性剂溶液中关于胶束和微乳的形成及性质已有大量研究.近年来表面活性剂分子所形成的层状液晶的结构和它的增溶.渗透、扩散作用的研究引起了广泛的关注.它的性质和结构的研究在实际与理论上皆有很大的意义,特别是在生物体系中显得十分重要.本工作利用小角度X射线衍射研究了SDS(sodium dode-cyl sulfate)-H_2O-C_4H_9OH体系层状液晶的结构及增溶C_7H_(16)后对结构的影响,并对本体系中两亲分子在液晶中的排列和增溶的机制提出相应的看法。

关键词：液晶 SDS H2O C4H9OH 结构增溶