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高热稳定性CaSrNb_(2)O_(7):Sm^(3+)橙红色荧光粉的合成及发光性能

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中国稀土学报 2024年第2期42卷 216-225,I0001页

作者：陆逸许英朝孟宪国鹿晨东杨伟斌吴盼盼刘月厦门理工学院光电与通信工程学院福建厦门361024 厦门理工学院福建省光电技术与器件重点实验室福建厦门361024

采用高温固相法合成了一系列CaSrNb_(2)O_(7):xSm^(3+)(0.01≤x≤0.08)橙红色荧光粉。并对样品的晶体结构、微观形貌、发光性能、热稳定性等进行了系统地研究。结果表明,样品的激发光谱由一个宽吸收带和一系列尖锐激发峰组成,其中最强... 详细信息

采用高温固相法合成了一系列CaSrNb_(2)O_(7):xSm^(3+)(0.01≤x≤0.08)橙红色荧光粉。并对样品的晶体结构、微观形貌、发光性能、热稳定性等进行了系统地研究。结果表明,样品的激发光谱由一个宽吸收带和一系列尖锐激发峰组成,其中最强激发峰位于406nm处。在406nm激发下,荧光粉最大发射峰位于645nm处,且呈现红光发射。当Sm^(3+)掺杂浓度达到2%时,样品可获得最佳的发射强度。根据Dexter理论分析,其猝灭机制为电偶极-电偶极相互作用。样品的荧光衰减曲线符合双指数衰减变化,且随Sm^(3+)浓度增加,荧光寿命逐渐缩短。在423K的温度下,样品发光强度约为室温下的93%,表明样品具有良好的热稳定性。通过CIE1931软件计算了样品的色坐标,均落在橙红色发光区域。并且荧光粉具有较低的色温和较高的色纯度。说明CaSrNb_(2)O_(7):Sm^(3+)橙红色荧光粉在白光LED领域具有潜在的应用价值。

关键词： CaSrNb_(2)O_(7):Sm^(3+) 高温固相法橙红色荧光粉白光LED

Sm^(3+)掺杂Na_(5)Y(MoO_(4))_(4-y)(WO_(4))_(y)高热稳定性荧光粉的制备及发光性能研究

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人工晶体学报 2024年第6期53卷 1016-1025页

作者：胡正开杨伟斌熊飞兵郭益升白鑫李明明厦门理工学院光电与通信工程学院厦门361024 厦门理工学院福建省光电技术与器件重点实验室厦门361024

本文采用高温固相法合成了一系列Na_(5)Y_(1-x)(MoO_(4))_(4-y)(WO_(4))y∶xSm^(3+)(x=0~0.10,y=0~4)橙红色荧光粉。通过粉末衍射、透射电镜、常温/变温荧光发射谱、荧光激发谱、荧光动态衰减曲线和CIE色度坐标等光谱手段对荧光粉样品... 详细信息

本文采用高温固相法合成了一系列Na_(5)Y_(1-x)(MoO_(4))_(4-y)(WO_(4))y∶xSm^(3+)(x=0~0.10,y=0~4)橙红色荧光粉。通过粉末衍射、透射电镜、常温/变温荧光发射谱、荧光激发谱、荧光动态衰减曲线和CIE色度坐标等光谱手段对荧光粉样品的光谱性能进行了研究。粉末衍射结果表明,合成的样品相位与Na_(5)Y(MoO_(4))_(4)的标准相一致,Sm^(3+)掺杂与引入(WO_(4))2-均未改变材料的相结构。在波长为406 nm光源的激发下,Na_(5)Y0.92(MoO_(4))3WO_(4)∶0.08Sm^(3+)荧光粉在643 nm附近橙红色荧光发射强度最高,继续增加Sm^(3+)的掺杂浓度,存在荧光猝灭现象,浓度猝灭的主要原因归为电偶极-电偶极相互作用。研究发现,Na_(5)Y(MoO_(4))_(4)基质中掺杂Sm^(3+)会引起电负性改变和晶格畸变,在Na_(5)Y_(1-x)(MoO_(4))_(4)∶xSm^(3+)中引入(WO_(4))2-阴离子基团,可以弥补因掺杂Sm^(3+)出现的缺陷,改善Na_(5)Y(MoO_(4))_(4)∶xSm^(3+)荧光粉的发光性能。在300~440 K,样品具有优异的热稳定性,荧光发射强度均超过室温时的96%;其CIE色度坐标均位于橙红光区域。以上结果表明新型Na_(5)Y_(1-x)(MoO_(4))_(4-y)(WO_(4))y∶xSm^(3+)橙红色荧光粉在WLED应用上有潜在价值。

关键词： Na_(5)Y(MoO_(4))_(4) 荧光粉 Sm^(3+)掺杂高温固相法荧光发射强度热稳定性白光LED

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Sm掺杂NaY(MoO)(WO)高热稳定性荧光粉的制备及发光性能研究

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人工晶体学报 2024年

作者：胡正开杨伟斌熊飞兵郭益升白鑫李明明厦门理工学院福建省光电技术与器件重点实验室厦门理工学院光电与通信工程学院

本文采用高温固相法合成了一系列Na5Y1-x(MoO4)4-y(WO4)y: xSm3+(x=0～0.10， y=0～4)橙红色荧光粉。通过粉末衍射、透射电镜、常温/变温荧光发射谱、荧光激发谱、荧光动态衰减曲线和CIE色度坐标等光谱手段对荧光粉样品的光谱性能进行... 详细信息

本文采用高温固相法合成了一系列Na5Y1-x(MoO4)4-y(WO4)y: xSm3+(x=0～0.10， y=0～4)橙红色荧光粉。通过粉末衍射、透射电镜、常温/变温荧光发射谱、荧光激发谱、荧光动态衰减曲线和CIE色度坐标等光谱手段对荧光粉样品的光谱性能进行了研究。粉末衍射结果表明，合成的样品相位与Na5Y(MoO4)4的标准相一致，Sm3+掺杂与引入(WO4)2-均未改变材料的相结构。在406 nm的激发下，Na5Y0.92(MoO4)3WO4:0.08Sm3+荧光粉在643 nm附近橙红色荧光发射强度最高，继续增加Sm3+的掺杂浓度，存在荧光猝灭现象，浓度猝灭的主要原因归为电偶极-电偶极相互作用。研究发现，Na5Y(MoO4)4基质中掺杂Sm3+会引起电负性改变和晶格畸变，在Na5Y1-x(MoO4)4: xSm3+中引入(WO4)2-阴离子基团，可以弥补因掺杂Sm3+出现的缺陷，改善Na5Y(MoO4)4：xSm3+荧光粉的发光性能。在300～440 K，样品具有优异的热稳定性，荧光发射强度均超过室温时的96%；其CIE色度坐标均位于橙红光区域。综合以上结果表明新型Na5Y1-x(MoO4)4-y(WO4)y:xSm3+橙红色荧光粉在WLED应用上有潜在应用价值。

关键词： Na Y(MoO ) 荧光粉 Sm 掺杂高温固相法荧光发射强度热稳定性白光LED

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MPDB工况下驾驶员姿态对损伤风险的研究

汽车工程 2024年第5期46卷 874-881页

作者：韩勇李明旺张悦苁徐国超潘迪厦门理工学院机械与汽车工程学院厦门361024 福建省客车先进设计与制造重点实验室厦门361024

为研究MPDB工况下驾驶员不同姿态的运动学响应及损伤风险,首先搭建了雅阁整车50%重叠移动渐进变形壁障(mobile progressive deformable barrier,MPDB)碰撞仿真模型,采用THUMS(Ver 6.1)人体有限元模型模拟了4种驾驶姿态:头部正常(HN)、... 详细信息

为研究MPDB工况下驾驶员不同姿态的运动学响应及损伤风险,首先搭建了雅阁整车50%重叠移动渐进变形壁障(mobile progressive deformable barrier,MPDB)碰撞仿真模型,采用THUMS(Ver 6.1)人体有限元模型模拟了4种驾驶姿态:头部正常(HN)、头部后仰(HR)、头部前倾(HF)、身体前倾(BF)。对比分析了碰撞速度为50 km/h时,4种驾驶姿态下驾驶员头部线性加速度、颅内压力、最大主应变以及胸部最大压缩量、肋骨塑性应变、心肺压力分布等参数。结果表明:HF和BF姿态下的头部损伤风险更高,其中颅内压力分别为474和744 kPa,超过重度颅脑损伤阈值235 kPa。4种驾驶姿态的心肺压力均超过严重损伤阈值170 kPa,心肺产生严重损伤概率较大。该研究结果理清了MPDB工况下驾驶员不同姿态的损伤风险,为汽车安全技术研究提供重要参考依据。

关键词：驾驶员 MPDB试验驾驶姿态头部损伤胸部损伤

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半透型光干涉防伪颜料的设计与性能分析

激光杂志 2024年

作者：林振鹏许英朝孙卫平厦门理工学院光电与通信工程学院厦门理工学院福建省光电技术与器件重点实验室厦门汉盾光学科技有限公司

采用5层全介质膜系结构，高低折射率膜层交替堆叠，高折射率层材料选择二氧化钛，低折射率层选择二氧化硅，制得设计主波长为665nm，随角异色效果为紫红色至黄绿色的高波段半透型光干涉防伪颜料。用Shimadzu UV-3600i Plus紫外可见近红... 详细信息

采用5层全介质膜系结构，高低折射率膜层交替堆叠，高折射率层材料选择二氧化钛，低折射率层选择二氧化硅，制得设计主波长为665nm，随角异色效果为紫红色至黄绿色的高波段半透型光干涉防伪颜料。用Shimadzu UV-3600i Plus紫外可见近红外分光光度计检测样品位于薄膜，膜粉，颜料三状态的透射光谱和反射光谱，对颜料片混合光固化油墨后所制成油墨的实际应用效果进行了刮样测试。结果表明，所制备颜料在保留鲜艳颜色且随角异色效果明显的前提下，能清晰的显示底板上的文字或图案，涂敷该颜料能在保留标志防伪设计效果的前提下，为标志提供随角异色防伪效果，提高标志防伪能力。

关键词：全介质膜系半透明薄膜干涉随角异色防伪颜料

CMP工艺参数对AlGaInP基LED衬底转移的影响

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激光杂志 2024年第3期45卷 224-229页

作者：王嘉伟许英朝杨凯鹿晨东范浩爽陆逸厦门理工学院光电与通信工程学院福建厦门361024 厦门理工学院光电技术与器件福建省重点实验室福建厦门361024 厦门士兰明镓化合物半导体有限公司福建厦门361024

以GaP/Al2O3/SiO2引导式出光结构作为芯片键合层,通过化学机械抛光工艺减少AlGaInP基Mini-LED衬底转移过程中出现的外延层空洞,提高芯片制备工艺良率。以材料去除速率和表面粗糙度作为技术评价指标,基于单因素实验结果对抛光压力、抛光... 详细信息

以GaP/Al2O3/SiO2引导式出光结构作为芯片键合层,通过化学机械抛光工艺减少AlGaInP基Mini-LED衬底转移过程中出现的外延层空洞,提高芯片制备工艺良率。以材料去除速率和表面粗糙度作为技术评价指标,基于单因素实验结果对抛光压力、抛光头转速、抛光盘转速、抛光液流速四个影响化学机械抛光工艺的因素展开L9(34)的正交实验,实验结果表明:在抛光头转速75 r/min、抛光盘转速80 r/min、抛光压力8 kPa、抛光液流速100 mL/min条件下,材料去除速率为83.12 nm/min,表面粗糙度最低为0.477 nm,采用优化后的工艺条件能够获得高质量的GaAs键合表面,有效减少外延空洞,提高制备良率。

关键词：化学机械抛光工艺 AlGaInP 正交试验表面粗糙度良率

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随机平视摄像条件下的路边车辆违停检测

上海交通大学学报 2024年

作者：詹泽辉钟铭恩袁彬淦谭佳威范康厦门大学航空航天学院厦门理工学院福建省客车先进设计与制造重点实验室

查处车辆违停是城市交通管理的重要内容。鉴于人工执法耗时耗力、定点监控抓拍作用域受限等问题，探索更为灵活高效的自动检测方法具有现实意义。为此提出一种适用于路面移动载体的无需停留且一次完成的巡航检测技术。首先在平视且随机... 详细信息

查处车辆违停是城市交通管理的重要内容。鉴于人工执法耗时耗力、定点监控抓拍作用域受限等问题，探索更为灵活高效的自动检测方法具有现实意义。为此提出一种适用于路面移动载体的无需停留且一次完成的巡航检测技术。首先在平视且随机拍摄角度条件下采集并构建了一个车辆违停图像数据集XMUT-VPI，为研究奠定数据基础。然后构建了一个多任务神经网络MTPN作为编码器来提取违停判断所需的关键要素信息，通过自主设计的可变形大核特征聚合模块DLKA-C2f和跨任务交互注意力机制CTIAM，相比同时取得了90.3%的最高目标平均检测准确率、4.4%的最小轮胎触地点平均定位误差和78.5%的次优车位线分割平均交并比精度。最后设计了高效解码器来进一步提取车位线骨架特征、拟合主车位可视区域、匹配目标车辆和解析轮胎触地点与车位的位置关系，给出违法停车、不当停车和规范停车三类典型行为的判定原理。实验表明，在各类复杂干扰情况下的综合准确率达到98.1%，领先现有主流方法，可为违停的全自动路面巡航治理提供技术支持。

关键词：深度学习车辆违停目标检测关键点定位语义分割

工艺参数对激光选区熔化316L零件电解质等离子抛光的影响

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电镀与涂饰 2024年第3期43卷 75-83页

作者：袁益民李辉谢鹏远王厚强胡丽葛晓宏厦门理工学院福建省功能材料及应用重点实验室福建厦门361024 福建省绿色智能清洗技术与装备重点实验室福建厦门361024

[目的]激光选区熔化技术(SLM)制备的316L不锈钢零件表面不易抛光。[方法]采用电解质等离子抛光技术对其进行抛光,研究了工艺参数对工件表面粗糙度(Ra)、微观形貌、元素含量、物相组成和耐蚀性的影响,并采用正交试验法进行工艺优化。[结... 详细信息

[目的]激光选区熔化技术(SLM)制备的316L不锈钢零件表面不易抛光。[方法]采用电解质等离子抛光技术对其进行抛光,研究了工艺参数对工件表面粗糙度(Ra)、微观形貌、元素含量、物相组成和耐蚀性的影响,并采用正交试验法进行工艺优化。[结果]各工艺参数对粗糙度的影响排序为:抛光电压>抛光时间>抛光液温度>下潜深度。最佳工艺参数为:抛光电压320 V,抛光时间300 s,抛光液温度80℃,下潜深度250 mm。抛光后的表面粗糙度可由2.1084μm降低至0.2127μm,表面Cr元素含量由初始的13.92%增大到17.28%,在3.5%NaCl溶液中的腐蚀电位正移,腐蚀电流密度降低。[结论]电解质等离子抛光可有效改善SLM制备的316L零件的表面形貌,降低其表面粗糙度,提高其耐蚀性。

关键词：奥氏体不锈钢激光选取熔化电解质等离子抛光正交优化表面粗糙度耐蚀性

鞘气辅助空气动力学透镜聚焦的干法气溶胶喷印实验研究

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中国机械工程 2024年第1期35卷 152-159页

作者：舒霞云王策常雪峰钟智东唐毅泉厦门理工学院机械与汽车工程学院厦门361024 精密驱动与传动福建省高等学校重点实验室厦门361024 厦门市智能制造高端装备研究重点实验室厦门361024 集美大学海洋装备与机械工程学院厦门361021

针对气溶胶喷印技术中油墨存储条件苛刻和溶剂、表面活性剂去除等问题,提出了一种鞘气辅助空气动力学透镜聚焦的纳米粉末气溶胶喷印装置,建立了气溶胶喷印系统,探究了喷印速度、鞘气/载气体积流量比值对系统喷印效率、线条形貌的影响。... 详细信息

针对气溶胶喷印技术中油墨存储条件苛刻和溶剂、表面活性剂去除等问题,提出了一种鞘气辅助空气动力学透镜聚焦的纳米粉末气溶胶喷印装置,建立了气溶胶喷印系统,探究了喷印速度、鞘气/载气体积流量比值对系统喷印效率、线条形貌的影响。通过激光烧结实验及电化学性能测试实验,分析了激光处理对气溶胶喷印线条电阻率、微观形貌、氧化程度的影响。实验结果表明:当喷印速度为19.20 mm/min、鞘气/载气体积流量比值为2.65时,获得了最小宽度为56.52μm的喷印线条;激光处理后,喷印线条中的纳米银粉末颗粒融化团聚并形成丝状物互相黏结,显著降低喷印线条的电阻率。

关键词：干法气溶胶喷印空气动力学透镜鞘气辅助聚焦喷印线条形貌激光烧结