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Advanced unconventional techniques for sub-100 nm nanopatterning

InfoMat 2022年第8期4卷 25-53页

作者： Mengmeng Guo Zhiyuan Qu Fanyi Min Zheng Li Yali Qiao Yanlin Song Key Laboratory of Green Printing Institute of ChemistryChinese Academy of Sciences(ICCAS)BeijingPR China State Key Laboratory of Trauma Burn and Combined InjuryInstitute of Burn ResearchSouthwest HospitalArmy Medical UniversityChongqingPR China

Patterned nanostructures with ultrasmall features endow functional devices with unique nanoconfinement and performance *** increasing demand for miniaturization has stimulated the development of sub-100 nm nanopatterning *** conventional lithography—which is limited by unavoidable factors—advanced patterning techniques have been reported to produce nanoscale features down to molecular or even atomic *** this review,unconventional techniques for sub-100 nm nanopatterning are discussed,in particular the principles by which to achieve the desired patterns(among other important issues).Such techniques can be classified into three categories:template-replica,template-induced,and template-free ***,multi-dimensional nanostructures consist of various building materials,the unique properties of which are ***,the remaining challenges and opportunities for large-scale patterning,the improvement of device perfor-mance,the multi-dimensional nanostructures of biocompatible materials,molecular-scale patterning,and the carbon footprint requirements for future nanofabrication processes are discussed.

关键词： functional devices high resolution nanoconfinement nanostructure patterning techniques sub-100 nm unconventional lithography

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