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作者

  • 1 篇 m.m.abdelrahman
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检索条件"主题词=sputtering and etching processes"
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Study of Three Different Types of Plasma Ion Sources
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Plasma Science and Technology 2009年 第5期11卷 604-608页
作者: M.M.ABDELRAHMAN H.EL-KHABEARy Accelerators & Ion Sources Department Nuclear Research CenterAtomic Energy Authority
Three types of plasma ion sources designed, manufactured and optimized in the Accelerators and Ion Sources Department, Nuclear Research Center, Atomic Energy Authority are introduced. Different means were investigated... 详细信息
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