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Scanning probe lithography on calixarene towards single-digit nanometer fabrication

International Journal of Extreme Manufacturing 2020年第3期2卷 104-124页

作者： Marcus Kaestner Ivo W Rangelow Institute of Micro-and Nanoelectronics Nanoscale Systems GroupFaculty of Electrical Engineering and Information TechnologyIlmenau University of TechnologyGustav-Kirchhoff-Str.198693 IlmenauGermany

Cost effective patterning based on scanning probe nanolithography(SPL)has the potential for electronic and optical nano-device manufacturing and other nanotechnological *** of the fundamental advantages of SPL is its capability for patterning and imaging employing the same *** is achieved with self-sensing and self-actuating cantilevers,also known as‘active'*** we used active cantilevers to demonstrate a novel path towards single digit nanoscale patterning by employing a low energy(lithography and enhances *** found that at low electron energies,the exposure in ambient conditions required approximately 10 electrons per single calixarene molecule to induce a crosslinking *** sensitivity was 80-times greater than a classical electron beam exposure at 30 *** operating the electro-exposure process in ambient conditions a novel lithographic reaction scheme based on a direct ablation of resist material(positive tone)is presented.

关键词： nanofabrication field-emission scanning probe lithography single nanometer lithography molecular resist

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