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A sacrificial Layer etching Method Applied in Surface Micromachining Using Agitated BHF and Glycerol Solution

Journal of Semiconductors 2008年第11期29卷 2175-2179页

作者：王晓宁杨振川闫桂珍北京大学微电子学研究院微米/纳米加工技术国家级重点实验室北京100871

A modified buffered-HF solution with NH4 F ： glycerol ： HF（4 ： 2 ： 1）is studied. With the implementation of a heating and agitating mechanism, this method is applied in a sacrificial layer etching scheme that increases the selectivity between silicon dioxide and aluminum. The etching rates of SiO2 and Al as a function of solution temperature are determined. Moreover,the effects of adding glycerol and agitating the etchant are examined and compared with this method. Finally, this method is tested on an actual device, and its efficiency is scrutinized.

关键词： surface micromachining sacrificial etching BHF glycerol

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