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Spatial separation effects in a guiding procedure in a modified ion-beam-sputtering process

Light(Science & Applications) 2015年第1期4卷 109-116页

作者： Sina Malobabic Marco Jupé Detlev Ristau Laser Zentrum Hannover e.V. Hollerithallee 8D-30419 HannoverGermany QUEST:Centre for Quantum Engineering and Space-Time Research Leibniz Universität HannoverHannoverGermany

In the present state of the art,ion beam sputtering is used to produce low-loss dielectric *** the manufacturing of a dielectric layer stack,the deposition material must be changed,which requires rapid mechanical movement of vacuum *** mechanical components can be regarded as a risk factor for contamination during the coating process,which limits the quality of high-end laser *** minimize the particle contamination,we present a novel deposition concept that does not require movable components to change the coating material during the coating process.A magnetic field guiding technique has been developed,which enables the tuning of the refractive index in the layer structure by sputtering mixtures with varying compositions of two materials using a single-ion *** versatility of this new concept is demonstrated for a highreflection mirror.

关键词： EM field separation ion beam sputtering plasma guiding

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