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Microstructure and properties of indium tin oxide thin films deposited by RF-magnetron sputtering
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Rare Metals 2006年 第4期25卷 359-364页
作者: LI Shitao QIAO Xueliang CHEN Jianguo JIA Fang WU Changle State Key Laboratory of Plastic Forming Simulation and Die & Mould Technology Huazhong University of Science and Technology Wuhan 430074China
Tin-doped indium oxide (ITO) thin films were prepared using conventional radio frequency (RF) planar magnetron sputtering equipped with IR irradiation using a ceramic target of In2O3/SnO2 with a mass ratio of 1:1... 详细信息
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