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Reduction of the phosphorus contamination for plasma deposition of p-i-n microcrystalline silicon solar cells in a single chamber
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Chinese Physics B 2010年 第9期19卷 638-642页
作者： 王光红 张晓丹 许盛之 郑新霞 魏长春 孙建 熊绍珍 耿新华 赵颖 Institute of Photo-electronic Thin Film Devices and Technology of Nankai University Key Laboratory of Photo-electronic Thin Film Devices and Technology of TianjinKey Laboratory of Opto-electronic Information Science and TechnologyMinistry of Education
This paper investigates several pretreatment techniques used to reduce the phosphorus contamination between solar cells. They include hydrogen plasma pretreatment, deposition of a p-type doped layer, i-a-Si：H or μc... 详细信息
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