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主题

  • 1 篇 干涉测量
  • 1 篇 光学检测
  • 1 篇 nm投影光刻
  • 1 篇 移相点衍射干涉仪
  • 1 篇 193

机构

  • 1 篇 中国科学院研究生...
  • 1 篇 中国科学院光电技...

作者

  • 1 篇 邢廷文
  • 1 篇 舒亮
  • 1 篇 何国良

语言

  • 1 篇 中文
检索条件"主题词=nm投影光刻"
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193nm移相点衍射干涉仪的测量误差分析
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光电工程 2009年 第2期36卷 67-72页
作者： 邢廷文 何国良 舒亮 中国科学院光电技术研究所 成都610209 中国科学院研究生院 北京100039
为了提高移相点衍射干涉仪对193nm投影光刻系统的检测精度,本文对其主要测量误差进行了探讨。在简要介绍了193nm移相点衍射干涉仪的基本结构和测量原理之后,总结了可能对测量结果产生影响的各种误差及其产生的原因。通过理论分析和数值... 详细信息
来源： 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
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