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Role of the carrier gas flow rate in monolayer MoS2 growth by modified chemical vapor deposition
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Nano Research 2017年 第2期10卷 643-651页
作者： Hengchang Liu Yuanhu Zhu Qinglong Meng Xiaowei Lu Shuang Kong Zhiwei Huang Peng Jiang Xinhe Bao Shanghai Advanced Research Institute Chinese Academy of Sciences 99 Hi-Tech Park Pudong Shanghai 200120 China State Key Laboratory of Catalysis Dalian Institute of Chemical Physics Chinese Academy of Sciences 457 Zhongshan Road Dalian 116023 China University of Chinese Academy of Sciences Beijing 100039 China ShanghaiTech University 100 Haike Road Pudong Shanghai 201210 China
Monolayer molybdenum disulfide （MoS2） has attracted much attention because of the variety of potential applications. However, its controlled growth is still a great challenge. Here, we report a modified chemical vap... 详细信息
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