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检索条件"主题词=metal-induced self-masking one-step reactive ion etching subwavelength structure"
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Effect of CHF3/Ar Gas Flow Ratio on self-masking subwavelength structures Prepared on Fused Silica Surface
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Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science) 2018年 第2期33卷 349-355页
作者： 伍景军 叶鑫 HUANG Jin SUN Laixi ZENG Yong WEN Jibin GENG Feng YI Zao 蒋晓东 张魁宝 State Key Laboratory Cultivation Base for Nonmetal Composite and Functional Materials Southwest University of Science and Technology Mianyang 621010 China Research Center of Laser Fusion China Academy of Engineering Physics Mianyang 621900 China Joint Laboratory for Extreme Conditions Matter Properties Southwest University of Science and Technology Mianyang 621010 China
Based on an advanced technology, randomly-aligned subwavelength structures（SWSs） were obtained by a metal-nanodot-induced one-step self-masking reactive-ion-etching process on a fused silica surface. metal-fluoride... 详细信息
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