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Studies on the Adsorption of Amino Methylene Phosphonic Acid Resin for Holmium(Ⅲ)

Journal of Rare Earths 2003年第6期21卷 613-617页

作者：吴香梅熊春华姚彩萍 Department of Chemistry Lishui Teachers College College of Food Science Biotechnology and Environmental Engineering Hangzhou University of Commerce

The adsorption behavior and mechanism of a novel chelate resin, amino methylene phosphonic acid resin (APAR) for Ho(Ⅲ) were investigated. The statically saturated adsorption capacity is 258 mg·g^(-1) resin at 298 K in HAc-NaAc medium. The Ho(Ⅲ) adsorbed on APAR can be repeatedly eluted by 3.0 mol·L^(-1) HCl and the elution percentage is as high as 95.8%. The resin can be regenerated and reused without apparent decrease in adsorption capacity. The apparent adsorption rate constant is k_(298)=1.14×10^(-5) s^(-1). The adsorption behavior of APAR for Ho(Ⅲ) obeys the Freundlich isotherm. The thermodynamic adsorption parameter, enthalpy change ΔH of APAR for Ho(Ⅲ) is 11.4 kJ·mol^(-1). The apparent activation energy is E_a=15.8 kJ·mol^(-1). The molar coordination ratio of the functional group of APAR to Ho(Ⅲ) is about 2∶1. The adsorption mechanism of APAR for Ho(Ⅲ) was examined by using chemical method and IR spectrometry.

关键词： matallurgical technology amino methylene phosphonic acid resin Ho adsorption mechanism rare earths

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