检索结果-南通市图书馆

Material Modeling in Semiconductor Process Applications

Journal of Microelectronic Manufacturing 2020年第4期3卷 40-50页

作者： Boris A.Voinov Patrick H.Keys Stephen M.Cea Ananth P.Kaushik Mark A.Stettler Logic Technology Development Intel CorporationHillsboro ORUSA95124 Nonvolatile Memory Solutions Group Intel CorporationSanta ClaraCaliforniaUSA95054 Logic Technology Development Intel CorporationNizhniy NovgorodRussian Federation603024

During the past decade,significant progress has been achieved in the application of material modeling to aid technology development in semiconductor manufacturing companies such as *** this paper,we review examples of applications involving a complex set of material modeling tools and methodologies and share our perspective of the future of the *** are given illustrating the landscape of useful physical models and approaches along with commentary addressing tool relevance and simulation efficiency *** the scope of this paper precludes providing in-depth details,references to more focused publications are ***,we outline how to approach constructing a general infrastructure for supporting TCAD material modeling applications.

关键词： TCAD atomistic modeling density functional theory molecular dynamics kinetic monte carlo.

来源：

维普期刊数据库评论

在线全文

维普期刊数据库

学校读者我要写书评

暂无评论

欢迎您,

建议与咨询留下您的常用邮箱和电话号码，以便我们向您反馈解决方案和替代方法

时间限定

文献类型

馆藏选择

核心期刊

语言

文献类型

帮助

文字说明：

检索规则说明：

检索范例：

分类表

所选分类

限定检索结果

文献类型

馆藏范围

日期分布

学科分类号

主题

机构

作者

语言

在线全文

请选择保存的检索档案：

请选择收藏分类：

通借通还

欢迎您,

建议与咨询 留下您的常用邮箱和电话号码，以便我们向您反馈解决方案和替代方法

时间限定

文献类型

馆藏选择

核心期刊

语言

文献类型

帮助

文字说明：

检索规则说明：

检索范例：

分类表

所选分类

限定检索结果

文献类型

馆藏范围

日期分布

学科分类号

主题

机构

作者

语言

在线全文

请选择保存的检索档案： 新增检索档案 确定 取消

请选择收藏分类： 新增自定义分类 确定 取消

通借通还

建议与咨询留下您的常用邮箱和电话号码，以便我们向您反馈解决方案和替代方法

请选择保存的检索档案：

请选择收藏分类：