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Formation of Ti-N graded bioceramic layer by DC hollow-cathode plasma nitriding

中国有色金属学会会刊：英文版 2004年第Z1期14卷 319-322页

作者： ZHENG Chuan-lin Department of Mechanical Engineering Beijing Jiaotong University Beijing 100044 China

Ti-N graded ceramic layer was formed on titanium by using DC hollow-cathode plasma nitriding technique. The structure of Ti-N layer was analyzed using X-ray diffractometry(XRD) with Cu Kα radiation, and the microhardness( HV0.1) was measured from the surface to inner along the cross section of Ti-N layer. The results indicate that the Ti-N graded layer is composed of ε-Ti2 N, δ-TiN and α-Ti(N) phases. Mechanism discussion shows that hollow-cathode discharge can intensify gas ionization, increase current density and enhance the nitriding potential, which directly increases the thickness of the diffusion coatings compared with traditional nitriding methods.

关键词： Ti-N graded ceramic layer hollow-cathode plasma nitriding

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