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Analyses of plasma reactive sputter deposition of CN_x films by OES
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Chinese Science Bulletin 1997年 第21期42卷 1792-1795页
作者： Zhao, J Kang, N Wang, JG Wang, RY Xu, JR Chinese Acad Sci Inst Phys Lab Opt Phys Beijing 100080 Peoples R China
OPTICAL emission spectroscopy (OES) is generally used in diagnosis on the various plasma filmdeposition processes to understand the mechanism of film growth. However, although the de-position precursors have been pred... 详细信息
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