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SU8 etch mask for patterning PDMS and its application to flexible fluidic microactuators

Microsystems & Nanoengineering 2016年第1期2卷 101-105页

作者： Benjamin Gorissen Chris Van Hoof Dominiek Reynaerts Michael De Volder Department of Mechanical Engineering Katholieke Universiteit Leuven&Flanders MakeCelestijnenlaan 300B3001 LeuvenBelgium Imec Kapeldreef 753001 LeuvenBelgium Institute for Manufacturing Department of EngineeringUniversity of Cambridge17 Charles Babbage RoadCambridgeCB30FSUK

Over the past few decades,polydimethylsiloxane(PDMS)has become the material of choice for a variety of microsystem applications,including microfluidics,imprint lithography,and soft *** most of these applications,PDMS is processed by replication molding;however,new applications would greatly benefit from the ability to pattern PDMS films using lithography and *** hardmasks,in conjunction with reactive ion etching(RIE),have been reported as a method for patterning PDMS;however,this approach suffers from a high surface roughness because of metal redeposition and limited etch thickness due to poor etch *** found that a combination of LOR and SU8 photoresists enables the patterning of thick PDMS layers by RIE without redeposition *** demonstrate the ability to etch 1.5-μm pillars in PDMS with a selectivity of ***,we use this process to lithographically process flexible fluidic microactuators without any manual transfer or cutting *** actuator achieves a bidirectional rotation of 50°at a pressure of 200 *** process provides a unique opportunity to scale down these actuators as well as other PDMS-based devices.

关键词： PDMS lithography SU8 etch mask microactuator bending actuator fluidic actuator

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