检索结果-南通市图书馆

Analysis of optical emission spectroscopy data during silicon etching in SF_(6)/O_(2)/Ar plasma

Plasma Science and Technology 2021年第12期23卷 117-127页

作者： Dong Hwan KIM Jeong Eun CHOI Sang Jeen HONG Department of Electronics Engineering Myongji University116 Myongji-roYongin-siGyeonggi-doRepublic of Korea

Silicon etching is an essential process in various applications,and a major challenge for etching process is anisotropic high aspect ratio etching *** etch profile is determined by the plasma parameters and process *** this study,the plasma state with each process parameters were analyzed through the optical emission spectroscopy(OES)plasma diagnostic sensor by both chemical and physical *** temperature and electron density were additionally acquired using the corona model with OES data that provides chemical species information,and the etch profile was evaluated through scanning electron microscope measurement *** results include changes in profile with gas ratio,bias power,and *** figure out that factors like ion energy and ion angular distribution as well as chemical reaction affect the anisotropic profile.

关键词： silicon etching profile optical emission spectroscopy plasma in-formation corona model

来源：

维普期刊数据库

同方期刊数据库评论

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

欢迎您,

建议与咨询留下您的常用邮箱和电话号码，以便我们向您反馈解决方案和替代方法

时间限定

文献类型

馆藏选择

核心期刊

语言

文献类型

帮助

文字说明：

检索规则说明：

检索范例：

分类表

所选分类

限定检索结果

文献类型

馆藏范围

日期分布

学科分类号

主题

机构

作者

语言

在线全文

请选择保存的检索档案：

请选择收藏分类：

通借通还

欢迎您,

建议与咨询 留下您的常用邮箱和电话号码，以便我们向您反馈解决方案和替代方法

时间限定

文献类型

馆藏选择

核心期刊

语言

文献类型

帮助

文字说明：

检索规则说明：

检索范例：

分类表

所选分类

限定检索结果

文献类型

馆藏范围

日期分布

学科分类号

主题

机构

作者

语言

在线全文

请选择保存的检索档案： 新增检索档案 确定 取消

请选择收藏分类： 新增自定义分类 确定 取消

通借通还

建议与咨询留下您的常用邮箱和电话号码，以便我们向您反馈解决方案和替代方法

请选择保存的检索档案：

请选择收藏分类：