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Spectral purity systems applied for laser-produced plasma extreme ultraviolet lithography sources:a review

High Power Laser Science and Engineering 2023年第5期11卷 137-152页

作者： Nan Lin Yunyi Chen Xin Wei Wenhe Yang Yuxin Leng School of Microelectronics Shanghai UniversityShanghaiChina Department of Precision Optics Engineering Shanghai Institute of Optics and Fine MechanicsChinese Academy of SciencesShanghaiChina

With the development of high-volume manufacturing for very-large-scale integrated circuits,the purity of the light source in the extreme ultraviolet lithography(EUVL)system needs to fulfil extreme requirements in order to avoid thermal effect,optical distortion and critical dimension errors caused by out-of-band radiations.This paper reviews the key technologies and developments of the spectral purity systems for both a free-standing system and a built-in system integrated with the collector.The main challenges and developing trends are also discussed,with a view towards practical applications for further improvement.Designing and manufacturing spectral purity systems for EUVL is not a single task;rather,it requires systematic considerations for all relevant modules.Moreover,the requirement of spectral purity filters drives the innovation in filtering technologies,optical micromachining and advanced metrology.

关键词： collector mirror extreme ultraviolet lithography spectral purity filter

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