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Simple Ultrasonic-Assisted clean graphene transfer

Journal of Electronic Science and Technology 2022年第3期20卷 237-245页

作者： Zhuo-Cheng Zhang Xiao-Qiu-Yan Zhang Min Hu the Terahertz Research Center School of Electronic Science and EngineeringUniversity of Electronic Science and Technology of ChinaChengdu610054China the Key Laboratory of Terahertz Technology(Ministry of Education) University of Electronic Science and Technology of ChinaChengdu610054China

clean graphene transfer has received widespread research attention, where most methods are focused on cleaning the upper surface of graphene to improve the transfer technique. However, the residue formation on the bottom surface of graphene is also inevitable;therefore, cleaning the bottom surface is crucial. In this study, we proposed an improved graphene wet transfer method using an ultrasonic processing(UP) step for etching copper(Cu). Using this method, the bottom surface can be cleaned efficiently. The results of atomic force microscopy(AFM)and Raman spectroscopy mapping revealed that the graphene films transferred with UP had smoother and cleaner surfaces, less contamination, and higher quality than those transferred without UP.

关键词： Chemical vapor deposition(CVD) clean graphene transfer ultrasonic processing

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