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catalyst enhanced chemical vapor deposition of Nano-Particle Nickel Films on Teflon Surface

Wuhan University Journal of Natural Sciences 2009年第2期14卷 179-182页

作者： LIU Endong FENG Wenfang ZHOU Jinlan YU Kaichao College of Resources and Environmental Engineering Wuhan University &Technology Wuhan 430070 Hubei China Department of Chemistry Huazhong University of Science and Technology/Hubei Key Laboratory of Materials Chemistry and Service Failure Wuhan 430074 Hubei China

Films formed with nanosized nickel particles on teflon surface were prepared by means of catalyst enhanced chemical vapor deposition （CECVD） with Ni（dmg）2, Ni（acac）2, Ni（hfac）2, Ni（TMHD）2, and Ni（cp）2 as precursors, and complexes Pd（hfac）2, PdC12 and Pd（η^3-2-methylallyl）acac as catalyst under cartier gas （H2）. The film growth rate depends on the precursors and substrate temperature. The chemical value, purity and surface morphology of the Ni particle films were characterized by X-ray photoelectron spectroscopy （XPS） and scanning electron microscopy （SEM）. The films obtained were shiny with silvery color, and consisted of grains with a particle size of 50-140 nm. The Ni was metallic of which the purity was about 90%-95% from XPS analysis. SEM micrograph showed that the film had good morphology.

关键词： catalyst enhanced chemical vapor deposition teflon nano-particle nickel film

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