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短枪长炮一手端腾龙AF18-250mm F/3.5-6.3 Di-Ⅱ aspherical [IF] Macro镜头

数字生活 2007年第12期 106-107页

像行业从来没有像今天这样一派欣欣向荣的景象,无论周末去公园,还是长假期间的风景名胜,我们都能看到数量前所未有单反相机和各色长枪短炮,这一切都得益于数字技术与光学成像系统的划时代结合。这其中低端入门单反机型与标配"套头"(通... 详细信息

像行业从来没有像今天这样一派欣欣向荣的景象,无论周末去公园,还是长假期间的风景名胜,我们都能看到数量前所未有单反相机和各色长枪短炮,这一切都得益于数字技术与光学成像系统的划时代结合。这其中低端入门单反机型与标配"套头"(通常焦段为18-55mm影

关键词：单反相机 aspherical Macro AF18-250mm F/3.5-6.3 Di IF

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3D Modelling of Thermal Replication for Designing Progressive Glass Moulds

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New Journal of Glass and Ceramics 2013年第1期3卷 34-42页

作者： Dominique Lochegnies Philippe Moreau Fabienne Hanriot Patrick Hugonneaux ESSILOR International Saint- Maur-des Fosses Paris France ESSILOR International Saint- Maur-des Fosses Paris France. Pole de Recherches et d’Enseignement Supérieur Université Lille Nord de France Lille France

Worldwide, ESSILOR International provides customers with Progressive Addition Lenses (PAL), which replace bifocal lenses. Thermal replication is one process to produce glass moulds for PAL, using sagged glass on a ceramic slumping block. In this paper, thermal replication for producing PAL glass moulds is developed through 3D modelling and experimentation. Our numerical approach is validated by comparing it with experimentation on the global 3D topology of the sagged glass. It is also validated by using more severe optical comparison criteria, developed by ESSILOR International to analyze the conformity of their products. Through modelling, the thermal replication is analyzed by studying the evolving contact between the sagged glass and the ceramic slumping block during the thermal cycle and the glass flow on the upper side of the sagged glass.

关键词： aspherical Lens Finite Element Model Precision Glass Forming Thermal Replication Metrology

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Current Status of Extreme Ultraviolet Lithography in Japan

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光学精密工程 2001年第5期9卷 424-429页

作者： Kazuya Ota, Iwao Nishiyama, Taro Ogawa, Ei Yano, Shinji Okazaki (ASET EUV Laboratory, Atsugi-Shi, Kanagawa 243-0198, ASET EUV Laboratory 日本 243-0198

ASET, Association of Super-advanced Electronics Technologies, has been taking the initiative in developing EUV lithography technology in Japan for the past three years. The aspherical mirror metrology using a visible light point diffraction interferometer (PDI), the wave front measurement using an at-wavelength PDI, and an at wavelength reflectometry for multilayers, various imaging simulations, multilayer coatings for the mask, the development of absorber materials for mask patterning, the mask substrate cleaning technique, and various photoresist processes have been developed. The visible light PDI employs a 0.5-μm pinhole as an aperture to generate an ideal spherical wave front and can measure a 0.3-N A mirror maximum. The at-wavelength PDI can measure the wave front error of the projection optics. The at-wavelength reflectometer can measure the reflectivity of multilayers and the round-robin test is taking place among ASET, the ALS in Lawrence Berkeley, and BESSY in Germany. The mask cleaning technique employs a supersonic hydro-cleaning technique. We have confirmed that the single layer resists can be used for EUV lithography.

关键词： ultraviolet lithography aspherical mirrors alignment systems

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