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High power impulse magnetron sputtering and its applications

Plasma Science and Technology 2018年第6期20卷 52-68页

作者： Yan YUAN Lizhen YANG Zhongwei LIU Qiang CHEN Lab of Plasma Physics and Materials Beijing Institute of Graphic CommunicationBeijing 102600People＇s Republic of China

High power impulse magnetron sputtering（HiPIMS） has attracted a great deal of attention because the sputtered material is highly ionized during the coating process,which has been demonstrated to be advantageous for better quality ***,the mechanism of the HiPIMS technique has recently been *** this paper,the current knowledge of HiPIMS is *** focus on the mechanical properties of the deposited thin film in the latest applications,including hard coatings,adhesion enhancement,tribological performance,and corrosion protection layers.A description of the electrical,optical,photocatalytic,and functional coating applications are *** prospects for HiPIMS are also discussed in this work.

关键词： HiPIMS basic knowledge applications review

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