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The impact of gate misalignment on the analog performance of a dual-material double gate junctionless transistor

Journal of Semiconductors 2015年第9期36卷 47-53页

作者： S.Intekhab Amin R.K.Sarin Department of Electronics and Communication Engineering Dr.B.R.Ambedkar National Institute of Technology Jalandhar

The analog performance of gate misaligned dual material double gate junctionless transistor is demonstrated for the first time. The cases considered are where misalignment occurs towards source side and towards drain side. The analog performance parameters analyzed are： transconductance, output conductance, intrinsic gain and cut-off frequency. These figures of merits （foms） are compared with a dual material double gate inversion mode transistor under same gate misalignment condition. The impacts of different length of control gate （L 1） for a given gate length （L） are also studied and the optimum lengths La under misalignment condition to have better analog foms and high tolerance to misalignment are presented.

关键词： dual material double gate (DMDG) junctionless transistor inversion mode transistor gate misalign-ment analog foms

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