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偏压对ECR-微波等离子增强沉积zrn薄膜的结构及性能的影响

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核技术 2005年第6期28卷 424-429页

作者：刘天伟董闯邓新禄陈曦大连理工大学三束国家重点实验室大连116024 中国工程物理研究院绵阳621900 江苏大学微纳米中心镇江212013

利用ECR-微波等离子溅射沉积技术加不同偏压在45#钢基体上制备了zrn薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)对薄膜的微观组织结构进行了分析。结果表明,无偏压时薄膜为非晶膜,随着偏压的升高,薄膜呈zrn晶体结构。利用扫描电镜... 详细信息

利用ECR-微波等离子溅射沉积技术加不同偏压在45#钢基体上制备了zrn薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)对薄膜的微观组织结构进行了分析。结果表明,无偏压时薄膜为非晶膜,随着偏压的升高,薄膜呈zrn晶体结构。利用扫描电镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)测试了薄膜表面形貌。薄膜表面平整,但仍存在局部缺陷;粗糙度(RMS)在0.311—0.811nm之间变化,轮廓算术平均值(Ra)在0.239—0.629nm之间变化。同时利用电化学极化实验在0.5mol/LNaCl溶液中测试了基体及薄膜的耐蚀性能,基体自腐蚀电位Ecorr为–512.3mV,样品Ecorr在–400.3—–482.6mV之间变化,45#钢基体自腐蚀电流Icorr为9.036μA,样品Icorr在0.142—0.694μA之间变化。并讨论了偏压对薄膜的微观组织和耐蚀性能产生影响的原因。

关键词：等离子体增强沉积非平衡磁控溅射 zrn薄膜偏压

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通过氮含量调控zrn薄膜中的超导圆顶

Science Bulletin 2023年第7期68卷 674-678页

作者：陈赋聪柏欣博王郁欣董涛时金安张衍敏孙晓敏魏忠旭秦明阳袁洁陈其宏汪信波王旭朱北沂黄荣进蒋坤周武王楠林胡江平李洋沐金魁赵忠贤 Beijing National Laboratory for Condensed Matter Physics Institute of PhysicsChinese Academy of SciencesBeijing 100190China School of Physical Sciences University of Chinese Academy of SciencesBeijing 100049China International Center for Quantum Materials School of PhysicsPeking UniversityBeijing 100871China CAS Key Laboratory of Cryogenics Technical Institute of Physics and ChemistryBeijing 100190China Songshan Lake Materials Laboratory Dongguan 523808China

超导圆顶作为非常规超导材料的一个常见特征,其存在经常被用来作为区分常规与非常规超导材料的判别标准.本文利用脉冲激光沉积氮化锆薄膜,并通过改变薄膜中的氮含量,实现了超导圆顶于绝缘态附近的调控。利用电学输运、磁性表征、太赫兹... 详细信息

超导圆顶作为非常规超导材料的一个常见特征,其存在经常被用来作为区分常规与非常规超导材料的判别标准.本文利用脉冲激光沉积氮化锆薄膜,并通过改变薄膜中的氮含量,实现了超导圆顶于绝缘态附近的调控。利用电学输运、磁性表征、太赫兹光谱、拉曼散射和透射电镜综合实验手段与密度泛函计算,作者发现氮化锆薄膜正常态存在从强绝缘到金属态再到弱绝缘的转变,其电阻率表现出类似于非常规超导的线性温度依赖到二次温度依赖特征.而氮化锆超导能隙及其转变温度符合BCS预期,其超导圆顶的演化与材料中电声耦合强度及结构无序相关,这项工作为“常规”超导材料中存在的“非常规”超导圆顶提供了强有力的证据与实例.

关键词：转变温度温度依赖太赫兹光谱密度泛函计算结构无序 zrn薄膜超导能隙拉曼散射

磁控溅射温度与时间对zrn薄膜附着力的影响

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材料热处理学报 2012年第5期33卷 121-124页

作者：孙维连李颖赵亚玲王会强孙铂李新领河北农业大学机电工程学院河北保定071001 河北省轻金属合金材料工程技术研究中心河北保定071001 保定立中车轮有限公司河北保定071001

采用非平衡磁控溅射技术在1Cr18Ni9Ti不锈钢上制备了zrn薄膜。用SEM、EDS观察并分析了薄膜的表面形貌和成分,用光电轮廓仪测量了膜层厚度。并采用划格法测试不同溅射时间和温度制备的薄膜附着力大小。分析不同溅射时间和温度对薄膜附着... 详细信息

采用非平衡磁控溅射技术在1Cr18Ni9Ti不锈钢上制备了zrn薄膜。用SEM、EDS观察并分析了薄膜的表面形貌和成分,用光电轮廓仪测量了膜层厚度。并采用划格法测试不同溅射时间和温度制备的薄膜附着力大小。分析不同溅射时间和温度对薄膜附着力的影响规律。结果表明,通过调节磁控溅射时间和温度可以得到具有一定厚度,成分稳定,结构致密的zrn薄膜,且溅射时间在1～20 min范围内时间越长薄膜附着力越大,溅射时间超过20 min,附着力趋于稳定;溅射温度在30～90℃范围内温度越高薄膜附着力越大,超过90℃溅射温度继续升高附着力减小。

关键词： zrn薄膜附着力溅射时间溅射温度

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zrn薄膜的制备与特性研究

ZrN薄膜的制备与特性研究

作者：刘永杰辽宁工程技术大学

学位级别：硕士

铀材料部件的腐蚀是一个较为严重的问题，为了提铀材料部件的表面抗腐蚀能力，人们越来越多的关注表面改性问题。各种表面改性技术逐步发展起来，各种抗腐材料也不断出现，其中非平衡磁控溅射技术是近期比较常采用的一种制膜技术，zrn... 详细信息

铀材料部件的腐蚀是一个较为严重的问题，为了提铀材料部件的表面抗腐蚀能力，人们越来越多的关注表面改性问题。各种表面改性技术逐步发展起来，各种抗腐材料也不断出现，其中非平衡磁控溅射技术是近期比较常采用的一种制膜技术，zrn是一种较具吸引力的抗腐材料。本文探讨了制备zrn薄膜的微波-ECR等离子体增强非平衡磁控溅射沉积工艺。对微波-ECR等离子体增强非平衡磁控溅射沉积工艺制备的薄膜，采用电子探针、EDX、AEX、XRD、SEM进行成分及微观结构分析;利用阳极极化测试了薄膜的耐蚀性能;通过摩擦磨损实验测试了薄膜的耐磨性能;总结了薄膜的特性与制备工艺的关系。

关键词： zrn薄膜特性磁控溅射沉积

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磁控溅射zrn薄膜厚度对其色度的影响

表面技术 2012年第2期41卷 47-49,78页

作者：孙维连安广孙铂王会强李新领河北农业大学机电工程学院保定071001 河北省轻金属合金材料工程技术研究中心保定071001

采用中频非平衡磁控溅射技术在镜面不锈钢板上制备了zrn薄膜,通过改变镀膜时间控制zrn薄膜的厚度。用色差仪测定了不同厚度zrn薄膜的L*,a*和b*值,绘制出不同厚度zrn薄膜的L*,a*和b*值的变化曲线图,得出膜层厚度对薄膜色度的影响规律:膜... 详细信息

采用中频非平衡磁控溅射技术在镜面不锈钢板上制备了zrn薄膜,通过改变镀膜时间控制zrn薄膜的厚度。用色差仪测定了不同厚度zrn薄膜的L*,a*和b*值,绘制出不同厚度zrn薄膜的L*,a*和b*值的变化曲线图,得出膜层厚度对薄膜色度的影响规律:膜层厚度低于63.7nm时,随着膜层厚度的增加,L*和a*值无变化,b*值呈线性递增,且颜色逐渐趋于金黄色;膜层厚度高于63.7nm时,随着膜层厚度的增加,薄膜颜色坐标未有明显变化,颜色为稳定的金黄色。

关键词：沉积速率膜层厚度 zrn薄膜色度

过渡层对介质漆表面的zrn薄膜膜基结合力的影响

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热加工工艺 2015年第10期44卷 189-192页

作者：张艺孙维连孙铂梁杨马志凯河北农业大学机电工程学院河北保定071001

采用磁控溅射技术在涂有介质漆的铝合金表面制备纯Al、Ti、Cr过渡层,在过渡层上溅射Zr N薄膜,并用划痕法测量不同复合薄膜的膜基结合力。测试结果表明,制备了过渡层的Zr N薄膜与介质漆间膜基结合力均能得到改善。具有Al过渡层的复合膜... 详细信息

采用磁控溅射技术在涂有介质漆的铝合金表面制备纯Al、Ti、Cr过渡层,在过渡层上溅射Zr N薄膜,并用划痕法测量不同复合薄膜的膜基结合力。测试结果表明,制备了过渡层的Zr N薄膜与介质漆间膜基结合力均能得到改善。具有Al过渡层的复合膜层膜基结合力超过50 N,解决了开裂、翘皮、剥落等问题,为提高Zr N薄膜与涂有介质漆的铝合金表面膜基结合力提供有效途径。

关键词： zrn薄膜过渡层结合力

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铝表面磁控溅射沉积zrn薄膜色度的研究

热加工工艺 2018年第6期47卷 159-160,164页

作者：张成杰王会强马召磊杨宇恒吴奕然河北农业大学机电工程学院

使用磁控溅射技术,在铝外表沉积zrn薄膜,研究了磁控溅射时间和氮气流量对zrn薄膜色度的影响。结果表明：随着磁控溅射时间的增长,薄膜的亮度L在减少,b^＊值（黄蓝值）在3min时出现了最大值,说明镀膜时间在3min时最接近黄色,a^＊值（红... 详细信息

使用磁控溅射技术,在铝外表沉积zrn薄膜,研究了磁控溅射时间和氮气流量对zrn薄膜色度的影响。结果表明：随着磁控溅射时间的增长,薄膜的亮度L在减少,b^＊值（黄蓝值）在3min时出现了最大值,说明镀膜时间在3min时最接近黄色,a^＊值（红绿值）波动比较大。对比仿金膜的L、a^＊、b^＊值（CIE1976L、a^＊、b^＊系统已为世界各国正式采纳,作为国际通用的测色标准,它适用于一切光源或物体色的表示与计算）,在3min左右时,薄膜颜色最接近金黄色;而氮气流量在13～18sccm内,薄膜颜色呈金黄色。因此对于铝的溅射参数为：溅射时间3min,氮气流量15sccm。

关键词：磁控溅射 zrn薄膜色度氮气流量溅射时间

工艺参数对阴极电弧离子镀zrn薄膜表面形貌及结构的影响

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真空 2012年第4期49卷 51-54页

作者：李福球林松盛康忠明林凯生广州有色金属研究院广东广州510651

本文采用阴极电弧离子镀技术制备了zrn膜层,研究了工作气压、偏压、弧流等工艺参数对zrn膜层表面形貌和结构的影响,分别用扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)分析了膜层的表面形貌及相结构。结果表明:工作气压、偏压、弧电流等工艺参数对... 详细信息

本文采用阴极电弧离子镀技术制备了zrn膜层,研究了工作气压、偏压、弧流等工艺参数对zrn膜层表面形貌和结构的影响,分别用扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)分析了膜层的表面形貌及相结构。结果表明:工作气压、偏压、弧电流等工艺参数对zrn膜层的表面形貌有较大的影响,在本实验内适当提高N2压强、偏压以及在稳弧前提下降低弧流有利于减少大颗粒,改善zrn膜层表面形貌,提高膜层综合性能;不同工艺参数下制备的zrn膜层均具有典型的面心立方结构,工作气压和弧电流对zrn膜层晶体生长方向的影响较小,偏压对晶体生长方向的影响显著,在20 V偏压下,晶体呈(200)面择优取向,继续提高偏压(100 V^300 V),晶体生长呈(111)面择优取向。

关键词：离子镀 zrn薄膜表面形貌结构

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射频磁控溅射制备zrn薄膜及其表征

吉林师范大学学报（自然科学版） 2008年第1期29卷 18-19,33页

作者：隋瑛锐柏昕昱刘波姚斌吉林师范大学物理学院吉林四平136000 吉林大学物理学院吉林长春130021

本文利用射频磁控溅射在N2和Ar混合气氛环境下,在玻璃衬底上沉积zrn薄膜.采用X射线衍射(XRD)、X射线散射能谱(EDX)和扫描电子显微镜(SEM)技术对薄膜微观结构、成分及形貌进行分析.结果表明,制备的zrn薄膜是化学计量比接近于1的面心NaCl... 详细信息

本文利用射频磁控溅射在N2和Ar混合气氛环境下,在玻璃衬底上沉积zrn薄膜.采用X射线衍射(XRD)、X射线散射能谱(EDX)和扫描电子显微镜(SEM)技术对薄膜微观结构、成分及形貌进行分析.结果表明,制备的zrn薄膜是化学计量比接近于1的面心NaCl结构.从薄膜的表面形貌图可知,薄膜表面平整,缺陷很少,晶粒排列非常致密,且空位及表面缺陷很少.

关键词：射频磁控溅射 zrn薄膜 X射线衍射