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Experimental Verification of the Physical Model for Droplet-Particles Cleaning in Pulsed Bias Arc Ion Plating

Journal of Materials Science & Technology 2005年第3期21卷 423-426页

作者： YanhuiZHAO GuoqiangLIN ChuangDONG LishiWEN StateKeyLaboratoryforMaterialsModificationbyLaser IonandElectronBeamsDalianUniversityofTechnologyDalian116024China StateKeyLaboratoryforMaterialsModificationbyLaser IonandElectronBeamsDalianUniversityofTechnologyDalian116024China//InstituteofMetalResearchChineseAcademyofSciencesShenyang110016China

It has been reported that application of pulsed biases in arc ion plating could effectively eliminate droplet particles. The present paper aims at experimental verification of a physical model proposed previously by us which is based on particle charging and repulsion in the pulsed plasma sheath. An orthogonal experiment was designed for this purpose, using the electrical parameters of the pulsed bias for the deposition of tin films on stainless steel substrates. The effect of these parameters on the amount and the size distribution of the particles were analyzed, and the results provided sufficient evidence for the physical model.

关键词： Arc ion plating Pulsed bias tin fllm Droplet-particles

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