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作者

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检索条件"主题词=Ti-Al-Si-N薄膜"
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si含量对电弧离子镀ti-al-si-n薄膜组织结构和力学性能的影响
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金属学报 2012年 第11期48卷 1349-1356页
作者： 时婧 裴志亮 宫骏 孙超 MUDERS C M 姜辛 中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室 Institute of Materials Engineering University of SiegenPaul-Bonatz-Strasse 9-11Siegen 57076Germany
利用磁过滤电弧离子镀技术在高速钢基体上制备了不同si含量的ti-al-si-n薄膜,研究了si含量对薄膜组织结构以及力学性能的影响.结果表明,ti-al-si-n薄膜主要由晶态tialn和非晶态的si_3n_4组成,随着si含量的增加,XRD衍射峰强度减弱,晶粒... 详细信息
来源： 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
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