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Theoretical Simulation of Surface Evolution Using the Random Deposition and Surface Relaxation for Metal Oxide Film in Atomic Layer Deposition

引用

Journal of Materials Science & Technology 2010年第4期26卷 371-374页

作者： Ji-Hoon Ahn Se-Hun Kwon Jin-Hyock Kim Ja-Yong Kim Sang-Won Kang Department of Materials Science and Engineering Korea Advanced Institute of Science and Technology373-1Kusong-dongYusong-guTaejon 305-701Korea Hynix Semiconductor Incorporated San 136-1Ami-riBubal-eubIcheon-siKyongki-do467-701Korea

Atomic layer deposition （ALD） has become an essential deposition method for forming nanometer scale thin films in the microelectronics industry, and its applications have been extended to multi-component thin films, as well as to single metal oxide films. In order to investigate the development of the surface structure of ultra-thin film qualitatively as well as quantitatively, ALD processes are simulated with a molecular scale. For this simulation, the film materials are deposited on a imaginary substrate that consists of small lattice. The deposition behaviors are described by using random deposition （RD） model or random deposition with surface relaxation （RDSR） model as the ALD growth mode, and the proposed model was applied to the deposition of sro-tio2 thin films. Through this work, growth characteristics such as surface morphology, deposited film coverage can be predicted.

关键词： Atomic layer deposition Random deposition sro-tio2

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