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  • 1 篇 工学
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主题

  • 1 篇 si-b-n复合薄膜
  • 1 篇 等离子体化学相沉...
  • 1 篇 rf-pcvd装置

机构

  • 1 篇 中国地质大学

作者

  • 1 篇 于翔
  • 1 篇 王成彪
  • 1 篇 于俊峰

语言

  • 1 篇 中文
检索条件"主题词=RF-PCVD装置"
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用射频pcvd法沉积Si-B-N复合薄膜
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引用
机械工程材料 2002年 第4期26卷 26-29页
作者： 于俊峰 于翔 王成彪 中国地质大学工程技术学院 北京100083
使用工业射频等离子体化学气相沉积 (rf -pcvd)设备 ,通过控制合理的工艺参数 ,在不同的基体负偏压下 ,分别制备出了Si B N非晶以及含有h BN、c BN显著结晶相的Si B N复合薄膜。提出了这两种不同晶形薄膜的形成模型。
来源： 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
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