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  • 1 篇 理学
    • 1 篇 化学
  • 1 篇 工学
    • 1 篇 仪器科学与技术
    • 1 篇 控制科学与工程

主题

  • 1 篇 预测控制
  • 1 篇 化学机械研磨
  • 1 篇 贝叶斯证据框架
  • 1 篇 r2r控制
  • 1 篇 克隆选择
  • 1 篇 最小二乘支持向量...

机构

  • 1 篇 中国科学院研究生...
  • 1 篇 中国科学院沈阳自...
  • 1 篇 沈阳化工大学

作者

  • 1 篇 王亮
  • 1 篇 胡静涛

语言

  • 1 篇 中文
检索条件"主题词=R2R控制"
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CMP过程多变量免疫预测r2r控制方法
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仪器仪表学报 2012年 第11期33卷 2586-2593页
作者： 王亮 胡静涛 中国科学院沈阳自动化研究所工业信息学重点实验室 沈阳110016 中国科学院研究生院 北京100039 沈阳化工大学 沈阳110142
为了解决多输入多输出和产品质量不易在线测量的化学机械研磨(chemical mechanical polishing,CMP)过程r2r(run-to-run)控制的难题,提出了一种基于贝叶斯最小二乘支持向量机(Bayes least squares support vector machine,BLS-SVM)预测... 详细信息
来源： 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
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