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光谱学与光谱分析 2014年第11期34卷 2892-2896页

作者：杨定宇朱兴华孙辉郝东李旭高秀英成都信息工程学院光电技术学院四川成都610225

毫米级厚度碘化铅(pbi2)膜是制造下一代阵列高能辐射探测器的关键材料。采用近空间升华法制备了pbi2厚膜,研究升华源温度对制备样品晶体结构、表面形貌及光谱性质的影响。结果表明,随着源温度的升高,样品厚度由1 000μm下降到220μm。X... 详细信息

毫米级厚度碘化铅(pbi2)膜是制造下一代阵列高能辐射探测器的关键材料。采用近空间升华法制备了pbi2厚膜,研究升华源温度对制备样品晶体结构、表面形貌及光谱性质的影响。结果表明,随着源温度的升高,样品厚度由1 000μm下降到220μm。X射线衍射测试表明,厚膜为沿(002)晶面择优取向生长的六方相多晶结构,其晶粒尺寸、位错密度及生长应力与源温度密切相关。扫描电子显微镜测试显示,样品由六方片状颗粒堆积而成,其颗粒直径约为248μm,厚约32.7μm,有明显的层状结构。解谱拟合发现,样品的拉曼光谱有147,169,217和210cm-1等4个散射峰,前三个峰对应于4H晶型pbi2晶体的纵光学波振动模式,210cm-1来源于衬底SnO2的相关振动模式。随源温度的升高,147cm-1拉曼峰有明显变化,其峰强高于225℃时出现大幅度的下降,峰形展宽。在340nm光激发下,样品的室温光致发光谱在2.25,2.57和2.64eV附近出现弱的发光峰,来源于与缺陷和激子相关的复合。综合结构表征与光谱测试结果,200℃时沉积的pbi2厚膜具有最佳的结晶质量,其厚度约为659μm。

关键词： pbi2厚膜近空间升华法源温度结构形貌拉曼光谱光致发光谱

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近空间升华法制备pbi_2厚膜及其性质研究

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功能材料 2011年第9期42卷 1555-1558页

作者：朱兴华杨定宇孙辉魏昭荣李乐中杨维清祖小涛电子科技大学物理电子学院四川成都610054 成都信息工程学院光电技术学院四川成都610225

采用近空间升华法在玻璃衬底上制备pbi2厚膜,研究了工艺参数对样品晶体结构、形貌和光致发光性质的影响。实验显示,沉积速率随着源温度的升高和沉积气压的下降而急剧增大。XRD谱表明pbi2膜为沿[001]晶向择优取向的六方多晶体,晶粒尺寸... 详细信息

采用近空间升华法在玻璃衬底上制备pbi2厚膜,研究了工艺参数对样品晶体结构、形貌和光致发光性质的影响。实验显示,沉积速率随着源温度的升高和沉积气压的下降而急剧增大。XRD谱表明pbi2膜为沿[001]晶向择优取向的六方多晶体,晶粒尺寸随沉积速率的增大而逐渐减小。同时,沉积速率增大还导致膜压应力变大,晶格常数减小,使(001)晶面衍射峰向大角度方向移动。SEM照片显示样品为(001)晶面堆积而成的片状晶粒结构,晶粒c轴与衬底平行。随着沉积速率的增大,晶粒有序性和膜致密度下降,同时(001)晶面上由于六方中心亚晶粒的出现而导致表面粗糙度大幅增大。样品的PL发光谱显示了本征发射特征,发光锋随沉积速率的增大向长波方向移动,同时峰位展宽,强度减弱。

关键词：近空间升华法 pbi2厚膜沉积速率压应力六方中心发光峰

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