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  • 4 篇 电子文献
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学科分类号

  • 4 篇 工学
    • 4 篇 材料科学与工程（可...

主题

  • 4 篇 ni膜
  • 1 篇 界面结合能
  • 1 篇 电弧离子度
  • 1 篇 腐蚀性能
  • 1 篇 磁控溅射
  • 1 篇 三点弯曲实验
  • 1 篇 剥离实验
  • 1 篇 miedema模型
  • 1 篇 表面改性
  • 1 篇 ti基体
  • 1 篇 电导率
  • 1 篇 cr/crn多层膜
  • 1 篇 多孔吸气材料
  • 1 篇 zr/zrvfe
  • 1 篇 薄膜力学
  • 1 篇 热处理
  • 1 篇 tin膜
  • 1 篇 断裂力学

机构

  • 1 篇 东南大学
  • 1 篇 兰州空间技术物理...
  • 1 篇 沈阳工业大学
  • 1 篇 西安交通大学
  • 1 篇 兰州大学

作者

  • 1 篇 冯欣格
  • 1 篇 孙雯君
  • 1 篇 宋伊
  • 1 篇 吴成耀
  • 1 篇 熊光连
  • 1 篇 陈国平
  • 1 篇 裴晓强
  • 1 篇 郑茂盛
  • 1 篇 周根树
  • 1 篇 张随新
  • 1 篇 赵文轸
  • 1 篇 任凤章

语言

  • 4 篇 中文
检索条件"主题词=Ni膜"
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ni膜与Ti基体之间的界面结合能研究
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自然科学进展 2003年 第1期13卷 99-103页
作者： 任凤章 周根树 赵文轸 郑茂盛 西安交通大学金属材料强度国家重点实验室 西安710049
报道了用断裂力学的三点弯曲实验测试ni膜与Ti基体之间的膜基界面结合能G,并与剥离实验结果以及Miedema模型计算结果进行了对比。结果表明:断裂力学方法测得的界面结合能G随基体的表面粗糙度R_a值的增大而增大,而与薄膜厚度无关;断裂力... 详细信息
来源： 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
磁控溅射工艺和热处理规范对ni膜电阻率的影响
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电子元件与材料 1991年 第3期10卷 60-61页
作者： 张随新 陈国平 东南大学电子工程系
用平面磁控溅射技术在不同衬底上制备了多晶ni薄膜。研究了放电电流、衬底表面粗糙度及沉积后的退火处理对ni膜电阻率的影响。用X射线衍射分析了膜的结构。
来源： 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
Zr/ZrVFe多孔吸气材料的表面改性研究
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真空 2022年 第6期59卷 17-21页
作者： 孙雯君 冯欣格 宋伊 裴晓强 吴成耀 兰州大学物理科学与技术学院 甘肃兰州730000 兰州空间技术物理研究所真空技术与物理重点实验室 甘肃兰州730000
采用磁控溅射技术在Zr/ZrVFe多孔吸气剂表面制备不同厚度的ni膜,研究了ni膜对吸气剂吸气性能的影响,利用SEM和EDS技术分析了吸气剂表面形貌及元素组成,通过定容法研究了吸气剂室温吸气性能。结果表明:吸气剂激活过程中,H_(2)O、CO_(2)和... 详细信息
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镁合金上电弧离子镀金属氮化物薄膜的研究
镁合金上电弧离子镀金属氮化物薄膜的研究
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作者： 熊光连 沈阳工业大学
学位级别：硕士
为了弥补镁合金的耐磨性差和耐腐蚀性能不好的特点,进一步促进镁合金的在更多领域中的应用,本文利用电弧离子镀技术,在镁合金衬底上成功制备了不同厚度的TiN薄膜和不同调制周期的Cr/CrN多层膜;通过电弧离子镀沉积Cu过渡层后,采用电镀工... 详细信息
来源： 同方学位论文库 同方学位论文库 评论
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