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Evaporation-induced morphology pattern of Triblock Copolymer A5B10C5 in Thin Film： a Multibody DPD Simulation Study

Chemical Research in Chinese Universities 2014年第1期30卷 144-148页

作者： LI Yang WANG Dequan WANG Wei LI Yanchun HUANG Xuri SUN Chiachung JIN Mingxing State Key Laboratory of Theoretical and Computational Chemistry Institute of Theoretical Chemistry Jilin University Changchun 130021 P. R. China Institute of Atomic and Molecular Physics Jilin University Changchun 130012 P. R. China

We used multibody dissipative particle dynamics method,by which the attractive and repulsive interactions can be effectively considered,to investigate the evaporation-induced morphology patterns of triblock copolymer A5B10C5 in thin *** changing attractive interactions between solvent vapor and triblock copolymer that represent various selective solvents,lamellar morphology,sandwich lamellar morphology,spherical morphology and disorder morphology patterns of the thin films were obtained for both coil-coil-coil and rod-coil-coil chain architectures,*** order parameter and the film thickness were calculated during the process for characterizing the film properties,and it was found that the rigid A-block of the triblock copolymer hinders the formation of an ordered structure.

关键词： Multibody dissipative particle dynamics Evaporation-induced morphology pattern Thin film

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