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作者

  • 1 篇 季一勤
  • 1 篇 刘华松
  • 1 篇 陈德应
  • 1 篇 takahashi m
  • 1 篇 王利栓
  • 1 篇 姜玉刚
  • 1 篇 张锋
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  • 1 篇 mikula m
  • 1 篇 罗征
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  • 2 篇 中文
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SiO_2薄膜TO与lo振动模式的数值研究
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红外与激光工程 2014年 第11期43卷 3746-3750页
作者: 刘华松 罗征 刘幕霄 姜玉刚 王利栓 季一勤 张锋 陈德应 中国航天科工飞航技术研究院天津津航技术物理研究所天津市薄膜光学重点实验室 天津300192 哈尔滨工业大学光电子技术研究所可调谐激光技术国家级重点实验室 黑龙江哈尔滨150080 海军装备部天津局驻天津地区兵器设备军事代表室 天津300192
对Si-SiO2基底薄膜系统进行数值实验,将SiO2薄膜的能损函数与透过率光谱和反射椭圆偏振光谱进行对比,讨论了在红外透过率光谱和反射椭偏光谱中激发的SiO2薄膜TO和lo振动模式。在正入射的红外透过率光谱中,仅能发现SiO2薄膜的TO振动模式... 详细信息
来源: 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
湿法化学制备的超薄和极薄二氧化硅/硅膜的光学性能研究
收藏 引用
冶金分析 2012年 第10期32卷 64-67页
作者: KOPANI M KOBAYASHI H TAKAHASHI M MIKULA M IMAMURA K VOJTEK P PINCIK E 医学院 柯美纽斯大学 科学与工业研究所 大阪大学和CREST日本科学与技术组织 化学、食品技术和应用光化学系 斯洛伐克工业大学 实验物理学系 数学、物理、信息学院柯美纽斯大学 斯洛伐克科学院物理研究所
二氧化硅薄膜至今依然属人们广泛研究的材料,这是因为当这种材料制备为高质量的超薄、极薄的氧化物时,可实际应用于不同方面,如超大规模集成电路(VLSI)的栅氧化层以及液晶显示屏(LCD)的生产。本文考察了厚度为3nm和5nm的极薄二氧化硅层... 详细信息
来源: 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论