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Discharge Characteristics of Micro-Needle Array Diamond Structure

Journal of Chemistry and Chemical Engineering 2011年第8期5卷 720-723页

作者： Takayuki Misu Tsukasa Higa Shimon Ono Miki Goto Toshihiko Arai Department of Home Electronics Engineering Kanagawa Institute of Technology 1030 Shimo-Ogino Atsugi 243-0292 Japan Department of Electrical and Electronic Engineering Kanagawa Institute of Technology 1030 Shimo-Ogino Atsugi 243-0292 Japan

CVD polycrystalline diamond surfaces were etched using reactive ion etching system with either a conventional stainless steel electrode or MgO sintered ceramic containing electrode. The micro-needle array of high aspect on diamond substrate surfaces obtained with MgO electrode was fabricated by using back-sputtering from MgO electrode. The RMS roughness of diamond substrate surfaces obtained with MgO electrode is higher than those obtained with stainless steel electrode. The secondary electron emission coefficient in Ne gas of the diamond obtained with MgO electrode was twice that obtained with the stainless steel electrode.

关键词： CVD diamond Secondary electron emission coefficient Breakdown voltage lcd backlighting Cold cathode back-sputtering.

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