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文献类型

  • 2 篇 期刊文献

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学科分类号

  • 2 篇 工学
    • 2 篇 材料科学与工程（可...
  • 1 篇 理学
    • 1 篇 物理学

主题

  • 2 篇 hfsixoy薄膜
  • 1 篇 退火
  • 1 篇 沉积速率
  • 1 篇 光学特性
  • 1 篇 射频反应磁控溅射
  • 1 篇 椭圆偏振光谱仪
  • 1 篇 薄膜
  • 1 篇 高k栅介质
  • 1 篇 射频磁控反应溅射

机构

  • 2 篇 西北工业大学

作者

  • 2 篇 刘正堂
  • 2 篇 冯丽萍
  • 1 篇 刘文婷
  • 1 篇 许冰
  • 1 篇 高倩倩
  • 1 篇 田浩
  • 1 篇 沈雅明
  • 1 篇 刘璐

语言

  • 2 篇 中文
检索条件"主题词=HfSixOy薄膜"
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高K栅介质HfSi_xO_y薄膜的制备工艺与结构分析
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引用
稀有金属材料与工程 2009年 第11期38卷 2039-2042页
作者： 沈雅明 刘正堂 冯丽萍 刘璐 许冰 西北工业大学凝固技术国家重点实验室 陕西西安710072
采用射频磁控溅射法制备hfsixoy薄膜,系统研究工艺参数对hfsixoy薄膜沉积速率的影响规律。对沉积态和退火HfO2和hfsixoy薄膜的结构进行了对比分析。结果表明:hfsixoy薄膜的沉积速率随射频功率、Ar气体流量和粘贴Si面积的增大而增大,随... 详细信息
来源： 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
退火对磁控溅射HfSi_xO_y薄膜光学性质的影响
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引用
光学学报 2012年 第6期32卷 303-307页
作者： 田浩 刘正堂 冯丽萍 高倩倩 刘文婷 西北工业大学材料学院凝固技术国家重点实验室 陕西西安710072
采用射频反应磁控溅射方法在硅衬底制备了hfsixoy薄膜,用X射线光电子能谱(XPS)分析了hfsixoy薄膜的成分,用X射线衍射(XRD)检测了薄膜的结构,并用椭圆偏振光谱仪研究了退火处理对薄膜光学性质的影响。XRD谱显示,hfsixoy薄膜经700℃高温... 详细信息
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