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文献类型

  • 3 篇 期刊文献

馆藏范围

  • 3 篇 电子文献
  • 0 种 纸本馆藏

日期分布

学科分类号

  • 3 篇 工学
    • 3 篇 材料科学与工程（可...
    • 1 篇 电子科学与技术（可...

主题

  • 3 篇 射频磁控共溅射法
  • 3 篇 cuo/sio2复合薄膜
  • 3 篇 微观结构
  • 1 篇 半导体材料
  • 1 篇 退火
  • 1 篇 光致发光特性

机构

  • 3 篇 山东师范大学

作者

  • 3 篇 孙钦军
  • 3 篇 石锋
  • 3 篇 李玉国

语言

  • 3 篇 中文
检索条件"主题词=CuO/SiO2复合薄膜"
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cuo/sio_2复合薄膜的微观结构和发光特性分析
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无机材料学报 2009年 第2期24卷 234-238页
作者： 石锋 李玉国 孙钦军 山东师范大学物理与电子科学学院 济南250014
采用射频磁控共溅射法在硅衬底上沉积Cu/sio2复合薄膜,然后在N2保护下高温退火,再于空气中自然冷却氧化,制备出低维cuo纳米结构,并对其微观结构和光致发光进行研究.退火温度为1100℃时样品中主晶相为立方晶系的cuo(200)晶面,薄膜样品表... 详细信息
来源： 维普期刊数据库 维普期刊数据库 同方期刊数据库 同方期刊数据库 评论
不同气氛保护下退火制备的cuo/sio_2复合薄膜微观结构分析
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引用
Journal of Semiconductors 2008年 第12期29卷 2381-2384页
作者： 石锋 李玉国 孙钦军 山东师范大学物理与电子科学学院 济南250014
采用射频磁控共溅射法在Si(111)衬底上沉积Cu/sio2复合薄膜,然后在N2和NH3保护下高温退火,再于空气中自然冷却氧化,制备出cuo结构,并对其微观结构进行分析.N2保护下退火温度为1100℃时样品中主晶相为立方晶系的cuo(200)晶面,薄膜样品表... 详细信息
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射频磁控共溅射高温NH_3退火制备cuo/sio_2复合薄膜的微观结构
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微细加工技术 2008年 第6期 12-13,18页
作者： 石锋 李玉国 孙钦军 山东师范大学物理与电子科学学院 济南250014
采用射频磁控共溅射法在硅衬底上沉积Cu/sio2复合薄膜,然后在NH3保护下高温退火,再于空气中自然冷却氧化,形成cuo结构,对其微观结构进行分析。随着退火温度的升高,cuo由单斜晶相逐渐转变为立方晶相,cuo薄膜结晶质量提高。样品于900℃和1... 详细信息
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