检索结果-南通市图书馆

功能材料 2002年第5期33卷 528-531页

作者：董显平吴建生毛立忠上海交通大学材料学院

在Pn2 PAr2 分压比分别为 0 %、2 .5 %、5 %、10 %的溅射气氛中制备了不同氮含量的cr si ni n薄膜 ,并研究了薄膜在热处理过程中的晶化、氧化行为以及电性能变化。结果表明 ,非晶cr si ni n薄膜在加热过程中 ,将析出晶化相crsi2 ;随薄... 详细信息

在Pn2 PAr2 分压比分别为 0 %、2 .5 %、5 %、10 %的溅射气氛中制备了不同氮含量的cr si ni n薄膜 ,并研究了薄膜在热处理过程中的晶化、氧化行为以及电性能变化。结果表明 ,非晶cr si ni n薄膜在加热过程中 ,将析出晶化相crsi2 ;随薄膜中氮含量增加 ,晶化相的形核与长大减缓 ,然而 ,薄膜的抗氧化能力得到提高。与低氮含量cr si ni n薄膜相比 ,高氮含量cr si ni n薄膜的电阻值在热处理过程中变化较小、欲获得较小电阻温度系数 (Tcr)需要更高的退火温度。

关键词： cr-si-ni-n电阻薄膜晶化氧化电性能电阻器

来源：

维普期刊数据库

同方期刊数据库评论

在线全文

学校读者我要写书评

暂无评论

欢迎您,

建议与咨询留下您的常用邮箱和电话号码，以便我们向您反馈解决方案和替代方法

时间限定

文献类型

馆藏选择

核心期刊

语言

文献类型

帮助

文字说明：

检索规则说明：

检索范例：

分类表

所选分类

限定检索结果

文献类型

馆藏范围

日期分布

学科分类号

主题

机构

作者

语言

在线全文

请选择保存的检索档案：

请选择收藏分类：

通借通还

欢迎您,

建议与咨询 留下您的常用邮箱和电话号码，以便我们向您反馈解决方案和替代方法

时间限定

文献类型

馆藏选择

核心期刊

语言

文献类型

帮助

文字说明：

检索规则说明：

检索范例：

分类表

所选分类

限定检索结果

文献类型

馆藏范围

日期分布

学科分类号

主题

机构

作者

语言

在线全文

请选择保存的检索档案： 新增检索档案 确定 取消

请选择收藏分类： 新增自定义分类 确定 取消

通借通还

建议与咨询留下您的常用邮箱和电话号码，以便我们向您反馈解决方案和替代方法

请选择保存的检索档案：

请选择收藏分类：